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探索紫外自成像光刻技术：原理、应用与缺陷修复的深度剖析
一、引言
1.1研究背景与意义
在现代科技飞速发展的浪潮中，紫外自成像光刻技术作为微纳加工领域的关键技术之一，正发挥着日益重要的作用，其对推动芯片制造、微纳加工等产业发展具有不可估量的意义。
从芯片制造角度来看，芯片作为现代电子设备的核心部件，其性能和集成度的提升对于电子设备的小型化、高性能化起着决定性作用。随着摩尔定律的不断推进，芯片制造工艺对光刻技术的精度要求越来越高。紫外自成像光刻技术以其独特的成像原理和高精度的图案转移能力，成为实现芯片微小特征尺寸加工的关键手段。例如，在先进的芯片制造中，需要将电路图案精确地刻蚀在硅片上，紫外自
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