深紫外计算光刻技术：原理、应用与挑战的深度剖析.docx
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一、引言
1.1研究背景与意义
在当今数字化时代，半导体产业作为现代信息技术的基石，其重要性不言而喻。从日常使用的智能手机、电脑，到高端的人工智能、云计算设备，半导体芯片无处不在，驱动着各种电子设备的高效运行。而光刻技术，作为半导体芯片制造的核心环节，对整个半导体产业的发展起着决定性作用。
随着科技的飞速发展，人们对芯片性能的要求日益提高。为了满足这种需求，芯片制造工艺不断追求更高的集成度和更小的特征尺寸。根据摩尔定律，集成电路上可容纳的晶体管数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。这就意味着芯片制造商需要不断缩小芯片上的电路图案尺寸，以在有限的芯片面积上集成更多
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