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衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究

目录

衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．3

内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3

1.2研究目的与内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.3研究方法与技术路线．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

衬底晶体的特性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

2.1衬底晶体的结构特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

2.2衬底晶体的物理性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

2.3衬底晶体的化学性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

MOCVD技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

3.1MOCVD技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

3.2MOCVD技术特点．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

3.3MOCVD技术应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

4.1衬底晶面粗糙度对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

4.2衬底晶面缺陷对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

4.3衬底晶面掺杂对外延生长的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

实验方法与结果分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

5.1实验材料与设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

5.2实验设计与步骤．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29

5.3实验结果与讨论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

6.1研究结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

6.2研究不足与局限．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

6.3未来研究方向．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

衬底晶面对MOCVD技术外延生长的影响研究（2）．．．．．．．．．．．．．．．．38

一、内容描述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38

1.1MOCVD技术简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41

1.2外延生长概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42

1.3衬底晶面对外延生长的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43

二、文献综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

2.1国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45

2.2已有研究成果概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46

2.3研究空白及发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．50

三、理论框架与实验方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52

四、实验设计与过程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．52

4.1实验样品准备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54

4.2实验条件设置．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．