《磁控溅射镀膜技术》课件.ppt

磁控溅射镀膜技术;目录;第一部分：溅射镀膜基础;什么是溅射镀膜？;溅射镀膜的历史发展;溅射镀膜的基本原理;溅射镀膜的优势;溅射镀膜的应用领域;第二部分：磁控溅射技术;磁控溅射的定义;磁控溅射与传统溅射的区别;磁控溅射的工作原理;磁场在溅射过程中的作用;磁控溅射的优点;磁控溅射的局限性;第三部分：磁控溅射设备;磁控溅射系统的组成;真空腔体设计;磁控溅射靶;基片台设计;磁场源配置;电源系统;气体供应系统;冷却系统;第四部分：磁控溅射工艺参数;工作气压的影响;溅射功率的选择;靶材与基片距离的调整;基片温度控制;溅射时间的确定;第五部分：磁控溅射薄膜特性;薄膜结构控制;薄膜厚度均匀性;薄膜附着力;薄膜应力控制;薄膜化学组成;第六部分：磁控溅射的高级应用;反应性磁控溅射;脉冲磁控溅射;高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）;不平衡磁控溅射;共溅射技术;第七部分：磁控溅射在工业中的应用;光学薄膜制备;半导体器件制造;太阳能电池生产;硬质涂层制备;装饰性涂层;第八部分：磁控溅射的质量控制;靶材纯度与质量控制;基片清洁度要求;真空度监控;in-situ监测技术;薄膜表征方法;第九部分：磁控溅射的发展趋势;大面积均匀镀膜技术;高效率磁控溅射源;智能化控制系统;环保型溅射工艺;总结与展望