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一种改进的CVD设备、以及用改进的CVD设备实现共渗沉积铝硅涂层的制备方法.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112981368 B (45)授权公告日 2022.06.07 (21)申请号 202110147304.0 C23C 16/56 (2006.01)

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