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一种垂直MOS晶体管的制备方法.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114551244 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210239392.1 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 地址
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