文档详情

一种晶圆装卸装置及化学机械抛光系统.pdf

发布：2023-05-15约1.68万字共22页下载文档

文本预览下载声明

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114851075 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210677163.8 (22)申请日 2022.06.16 (71)申请人华海清科股份有限公司地址 300

显示全部

相似文档

一种用于化学机械抛光的修整装置、系统及方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 114536221 B (45)授权公告日 2022.08.16 (21)申请号 202210454320.9 (22)申请日 2022.04.28 (65)同一申请的已公布的文献号
2023-05-10 约1.7万字 16页立即下载
用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 114536220 B (45)授权公告日 2022.07.15 (21)申请号 202210442761.7 CN 102554788 A,2012.07.11 (22)申请日
2023-05-08 约1.69万字 18页立即下载
一种U型工件机械抛光装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213380938 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022499279.6 (22)申请日 2020.11.03 (73)专利权人南京祺恒机电设备有限公司
2023-03-09 约7.8千字 9页立即下载
用于化学机械抛光的承载头和用于化学机械抛光的系统.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214135511 U (45)授权公告日 2021.09.07 (21)申请号 202021775073.5 B24B 37/30 (2012.01)
2023-04-03 约1.4万字 16页立即下载
一种机械抛光动力头.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213004521 U (45)授权公告日 2021.04.20 (21)申请号 202021061410.4 (22)申请日 2020.06.10 (73)专利权人宁波敏实汽车零部件技术研发有
2023-02-26 约6.86千字 10页立即下载
化学机械抛光装置及其制造及操作方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114536211 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210101603.5 B24B 47/10 (2006.01)
2023-05-09 约1.9万字 17页立即下载
一种机械抛光设备的自动装夹装置.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113334223 B (45)授权公告日 2023.04.14 (21)申请号 202110410132.1 B24B 41/00 (2006.01)
2023-06-20 约1.94万字 17页立即下载
一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号CN117798813A (43)申请公布日2024.04.02 (21)申请号202410149701.5 (22)申请日2024.02.02 (71)申请人华海清科股份有限公司地址30
2024-03-29 约1.48万字 17页立即下载
一种化学机械抛光保持环及其加工方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113352231 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110757187.X (22)申请日 2021.07.05 (71)申请人上海江丰平芯电子科技有限公司
2023-06-18 约1.13万字 8页立即下载
化学机械抛光系统以及相关的派工管理方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113361833 B (45)授权公告日 2022.05.24 (21)申请号 202010134312.7 (51)Int.Cl.
2023-06-18 约1.71万字 21页立即下载
软脆功能晶体碲锌镉化学机械抛光.pdf 第44卷第12期机械工程学报 V01．44No．12 2008年12月 00 Dec． 2 8 CHⅣESEJOURNALOFMECHANICALENGINEERING DoI：10．3901／JM
2017-06-04 约字 8页立即下载
化学机械抛光工艺(CMP)..doc 化学机械抛光液（CMP）氧化铝抛光液具体添加剂摘要：本文首先定义并介绍CMP工艺的基本工作原理，然后，通过介绍CMP系统，从工艺设备角度定性分析了解CMP的工作过程，通过介绍分析CMP工艺参数，对CMP作定量了解。在文献精度中，介绍了一个SiO2的CMP平均磨除速率模型，其中考虑了磨粒尺寸，浓度，分布，研磨液流速，抛光势地形，材料性能。经过实验，得到的实验结果与模型比较吻合。MRR模型可用于CMP模拟，CMP过程参数最佳化以及下一代CMP设备的研发。最后，通过对VLSI制造技术的课程回顾，归纳了课程收获，总结了课程感悟。关键词： CMP、研磨液、平均磨除速率、设备 Abstract
2016-12-30 约9.34千字 11页立即下载
化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114829521 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202080086651.0 (74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所
2023-05-14 约3.25万字 24页立即下载
自退让性固结磨粒抛光垫在化学机械抛光中的接触机理.pdf 摘要随着科技的不断进步，第三代半导体材料（如SiC）因具有更加理想的光电转化能力以及微波信号传输效率，已经成为当前信息社会高技术产业的基础性材料，在众多领域中得到广泛应用。 化学机械抛光（CMP）技术是目前实现半导体材料等硬脆材料表面全局平坦化最有效的技术之一，按照磨料在CMP加工过程中的作用形式，其可分为游离磨料化学机械研抛以及固结磨料化学机械研抛。相较于游离磨料化学机械研抛，固结磨料化学机械研抛具有加工效率高、耗材成本少、环保无污染等优点，固结磨料抛光垫作为固结磨料
2025-05-06 约8.04万字 75页立即下载
机械抛光培训.pptx 机械抛光培训;未找到bdjson;01;;抛光技术发展历程;;02;;手工抛光工具;根据抛光要求和工件材质选择合适的抛光设备和材料。;03;;影响抛光质量的因素分析;常见抛光缺陷及解决方法;04;安全生产法规和政策解读;操作者培训与考核;环保措施与节能技术应用;05;纳米抛光液、纳米级抛光磨料等，提高抛光精度和效率。;提高抛光效率的新方法;;06;现状分析;;案例三：高效环保抛光解决方案;设计目标;THANKS
2025-05-12 约小于1千字 28页立即下载