可灵活调整溅射范围的物理气相沉积设备.pdf

《《第四章_薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)-_溅射法》》.ppt 4.1 辉光放电与等离子体 4.2 物质的溅射现象 4.3 溅射沉积技术第四章薄膜制备技术-溅射法溅射镀膜的特点（1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实现溅射（2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好（3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好（4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获得厚度均匀的薄膜 4.1 辉光放电和等离子体等离子体等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体，包含中性原子或分子、原子团、带电离子和自由电子。作用： 1、提供发生在衬底表面的气体反应所需要的大部分能量

2015-10-11 约4.36千字 42页立即下载

第四章薄膜的物气相沉积Ⅱ溅射法.ppt 4.1 辉光放电与等离子体 4.2 物质的溅射现象 4.3 溅射沉积技术第四章薄膜制备技术-溅射法溅射镀膜的特点（1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实现溅射（2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好（3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好（4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获得厚度均匀的薄膜 4.1 辉光放电和等离子体等离子体等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体，包含中性原子或分子、原子团、带电离子和自由电子。作用： 1、提供发生在衬底表面的气体反应所需要的大部分能量

2019-05-10 约4.36千字 42页立即下载

化学气相沉积和物理气相沉积中的分形.pptx 化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）中薄膜的分形;目录;气相沉积的应用;化学气相沉积简介;物理气相沉积简介;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;物理气相沉积中的分形;

2017-04-20 约小于1千字 12页立即下载

物理气相沉积技术.ppt 阴极溅射镀膜原理示意图1-高压屏蔽2-高压线3-基片4-钟罩5-阴极屏蔽6-阴极（靶材）7-阳极8-加热器9-Ar进口10-加热电源11-至真空系统12-高压电源阴极溅射主要过程：阳离子电子靶材（阴极）基材（阳极）二次电子正离子气体辉光放电加热基材再次轰击靶材原子，分子膜生成的三大阶段：溅射原子向基片迁移粒子的平均自由程，决定了靶面与基板的距离！靶面原子的溅射成膜粒子向基板入射并沉积成膜靶面原子的溅射1.机理1）高温蒸发2）弹性碰撞2.靶材表面原子运动现象粒子能量高能粒子低能粒子高能粒子发生现象溅射现象原位振动反冲，联级碰撞产生效应原子脱离晶格提高表面活性周围原子碰撞移位（四）影响溅射量的因素

2025-02-13 约6.09千字 10页立即下载

8-1物理气相沉积.pptx 第八章 气相沉积技术;气相沉积技术: 发展迅速，应用广泛 →→表面成膜技术;超硬薄膜性能对比;since 1970s→→ 薄膜技术和薄膜材料→→发展突飞猛进 →→成果累累当代真空技术和材料科学中最活跃的研究领域;可沉积的物质：金属膜、合金膜，化合物、非金属、半导体、陶瓷、塑料膜等。沉积薄膜物质无限制→→基体无限制 ;application 1.大量用于电子器件和大规模集成电路制作 2.制取磁性膜及磁记录介质、绝缘膜、电介质膜、压电膜、光学膜、光导膜、超导膜、传感器膜和耐磨、耐蚀、自??滑膜、装饰膜以及各种特殊需要的功能膜等在促进电子电路小型化、功能高度集成化方面发挥着关键的作

2019-10-10 约4.44千字 76页立即下载

物理气相沉积技术.ppt 物理气相沉积技术第1页，共25页，星期日，2025年，2月5日PVD原理PVD特点PVD分类PVD现状与发展PVD应用第2页，共25页，星期日，2025年，2月5日原理：物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。第3页，共25页，星期日，2025年，2月5日PVD的物理原理示意图块状材料(靶材)薄膜物质输运能量输运能量以气态方式进行气态基底第4页，共25页，星期日，2025年，2月5日“物理气相沉积”通常有下面三个工艺步骤：所生长的材料（靶材）以

2025-02-14 约1.49千字 25页立即下载

物理气相沉积.ppt 二、蒸发方法蒸发源：加热待蒸发材料并使之挥发的器具称为蒸发源，也称加热器。蒸镀方法主要有下列几种：电阻加热法：让大电流通过蒸发源，加热待镀材料，使其蒸发的简单易行的方法。添加标题对蒸发源材料的基本要求是：高熔点，低蒸气01添加标题压，在蒸发温度下不会与膜料发生化学反应或02添加标题互溶，具有一定的机械强度，且高温冷却后脆03添加标题性小等性质。常用钨、钼、钽等高熔点金属材料。04添加标题按照蒸发材料的不同，可制成丝状、带状和板状等。05电阻加热蒸发源2.电子束加热：即用高能电子束直接轰击蒸发物质的表面，使其蒸发。由于是直接在蒸发物质中加热，避免了蒸发物质与容器的反应和蒸发源材料的蒸发，故可制备

2025-02-20 约4.7千字 10页立即下载

8-1物理气相沉积题稿.pptx 第八章 气相沉积技术 气相沉积技术: 发展迅速，应用广泛 →→表面成膜技术 application →→制备各种特殊力学性能的薄膜涂层，如超硬、高耐蚀、耐热和抗氧化等。制备各种功能薄膜材料和装饰薄膜涂层等。薄膜制备技术的应用情况超硬薄膜性能对比 since 1970s→→ 薄膜技术和薄膜材料→→发展突飞猛进 →→成果累累当代真空技术和材料科学中最活跃的研究领域微电子工业乃至信息工业的基础工艺: 气相沉积技术+微细加工技术（光刻腐蚀、离子刻蚀、反应离子刻蚀、离子注入和离子束混合改性等在内的微细加工技术领域） 可沉积的物质：金属膜、合金膜，化合物、非金属、半导体、陶瓷、塑

2017-03-25 约7.21千字 76页立即下载

物理气相沉积法制备薄膜设备简单认识.docx GUIZHOU UNIVERSITY课程论文课程名称电子功能材料制备论文名称 气相沉积法制备薄膜设备简单认识专业班级电子科学与技术091班学生姓名胡启勇学号 0907010034指导教师肖清泉周章渝理学院实验时间： 2013年1月11日气相沉积法制备薄膜设备简单认识一、背景基本知识简介超导是指某些物质在一定温度条件下（一般为较低温度）电阻降为零的性质。1911年荷兰物理学家H·卡末林·昂内斯发现汞在温度降至4.2K附近时突然进入一种新状态，其电阻小到实际上测不出来，他把汞的这一新状态称为超导态。以后又发现许多其他金属也具有超导电性。低于某

2017-03-27 约1.69千字 4页立即下载

一种加快腔室降温的物理气相沉积设备.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114875362 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210808343.5 (22)申请日 2022.07.11 (71)申请人上海陛通半导体能源

2023-05-18 约1.35万字 11页立即下载

物理气相沉积真空镀膜设备介绍..doc 物理气相沉积真空镀膜设备介绍（上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系，上海 200444）摘要：本文主要介绍了五类物理气相沉积的真空镀膜设备。五种设备分别为：电阻式蒸发装置、电子束蒸发装置、电弧蒸发装置、激光蒸发装置以及空心阴极蒸发装置。介绍了相关设备的原理，优缺点等。其中，着重列出了有关电子束蒸发装置的其中一个应用，是厚度为200μm左右的独立式的铁铬-Y2O3非晶态/晶态复合涂层的已经从基板温度500oC左右的铁铬和氧化钇材料的电子束物理气相沉积产生。 Abstract:It describes the five physical vapor deposition vacu

2017-01-10 约1.01万字 16页立即下载

一种高真空碘化铯物理气相沉积镀膜设备.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213113466 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021702891.2 (22)申请日 2020.08.14 (73)专利权人上海永容光电科技有限公司

2023-02-27 约6.36千字 7页立即下载

气相沉积技术主要应用范围.doc 气相沉积技术主要应用范围应用分类涂层材料基体材料应用范围高硬度、耐磨损 TiN、ZrN、TaN、NbN、CrN、NBN、Si3N4、TiC、ZrC、Cr7C3、SiC、Ti C、N 、Ti B、N Ti Al、N 、β-C3N4、金刚石等高速钢、模具钢、硬质合金、金属陶瓷等机械加工工具、模具、机械零件耐高温、抗氧化 Al、W、Ti、Ta、Mo、Al2O3、Si3N4、Ni-Cr、BN等不锈钢、耐蚀合金钢、Mo合金等汽轮机叶片、排气管、喷嘴、航空航天器件、原子能工业耐热构件耐腐蚀 TiN、TiC、 Al2O3、Al、Cd、Ti、Cr、 Cr7C3、Ni-Cr、F

2017-06-03 约1.31千字 2页立即下载

《《第3章+薄膜的物理气相沉积II》》.ppt 第一节气体放电现象与等离子体一、气体放电现象二、气体放电过程三、辉光放电现象及等离子体鞘层四、非自持放电与自持放电一、气体放电现象 (gas discharge) 原子激发能（excitation energy）: 原子中电子从基态能级激发到激发态能级所需能量。原子电离能（ionization energy）：原子在外界因素作用下失去一个或几个电子而形成自由电子和正离子所需要的能量。碰撞电离、光电离（中性复合、激发态恢复导致分级电离）、热电离。金属（阴极）表面电离能（逸出功work function，work

2015-10-10 约1.45万字 123页立即下载

薄膜的物理气相沉积Ⅰ蒸发法.pptx 第三章薄膜制备技术-蒸发法一、真空蒸发法制备薄膜的基本原理（重点）二、真空蒸发的设备三、汽化热和蒸汽压四、蒸发的速率五、元素、化合物、合金蒸发的特点（重点）六、真空蒸发源七、薄膜均匀性和纯度第一页，共四十六页。真空蒸发一、真空蒸发沉积的物理原理在真空环境下，给待蒸发物质提供足够的热量以获得蒸发所必须的蒸汽压，在适当的温度下，蒸发粒子在基片上凝结形成薄膜。真空蒸发就是利用蒸发材料在高温时所具有的饱和蒸汽压进行薄膜制备。第二页，共四十六页。二、真空蒸发的设备真空蒸发设备示意图如下图所示第三页，共四十六页。真空蒸发设备主要由三部分组成：1. 真空系统：为蒸发过程提供真空环境2. 蒸发系统：

2023-03-16 约6.31千字 46页立即下载