基于标准成像空间的高分辨率荧光分子断层成像方法.pdf
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114557680 B
(45)授权公告日 2022.07.19
(21)申请号 202210445460.X G06T 7/00 (2017.01)
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