SILVACO工艺设计的研究仿真.ppt
文本预览下载声明
求职应注意的礼仪 求职时最礼貌的修饰是淡妆 面试时最关键的神情是郑重 无论站还是坐,不能摇动和抖动 对话时目光不能游弋不定 要控制小动作 不要为掩饰紧张情绪而散淡 最优雅的礼仪修养是体现自然 以一种修养面对两种结果 必须首先学会面对的一种结果----被拒绝 仍然感谢这次机会,因为被拒绝是面试后的两种结果之一。 被拒绝是招聘单位对我们综合考虑的结果,因为我们最关心的是自己什么地方与用人要求不一致,而不仅仅是面试中的表现。 不要欺骗自己,说“我本来就不想去”等等。 认真考虑是否有必要再做努力。 必须学会欣然面对的一种结果----被接纳 以具体的形式感谢招聘单位的接纳,如邮件、短信 考虑怎样使自己的知识能力更适应工作需要 把走进工作岗位当作职业生涯的重要的第一步,认真思考如何为以后的发展开好头。 Thank you 命令讲解: 12、边墙氧化层淀积命令: #Space Oxide Deposation deposit oxide thick=0.12 divisions =10 命令讲解: 13、边墙形成命令: #Spacer oxide Etch etch oxide thick=0.12 命令讲解: 14、源漏注入命令: #Source/Drain implant implant Arsenic dose=5e15 energy=50 crystal 命令讲解: 15、快速退火命令: #Source/Drain annealing method fermi diffus time=1 temp=900 nitro press=1.00 命令讲解: 16、开接触窗口命令: #open contect windows etch oxide left p1.x=0.2 命令讲解: 17、金属铝淀积命令: #Aluminum Deposition deposit aluminum thick=0.03 division=2 命令讲解: 18、金属铝刻蚀命令: #etch Aluminum Deposition etch aluminum right p1.x=0.18 命令讲解: 19、金属铝刻蚀命令: #etch Aluminum Deposition etch aluminum right p1.x=0.18 命令讲解: 20、提取结深命令: #extract juncation deepth extract name=nxj xj material=silicon mat.occno=1 x.val=0.2 junc.occno=1 命令讲解: 21、提取N++源漏方块电阻命令: #extract sheet res extract name=n++ sheet res sheet.res material=silicon mat.occno=1 x.val=0.05 region.occno=1 命令讲解: 22、提取边墙方块电阻命令: #extract LDD sheet res extract name=LDD sheet res sheet.res material=silicon mat.occno=1 x.val=0.3 region.occno=1 命令讲解: 23、提取阈值电压命令: #extract 1DVT extract name=1dvt 1dvt ntype x.val=0.5 qss=1e10 命令讲解: 24、复制结构命令: struct mirror right 命令讲解: 25、设置电极命令: #set electrode electrode name=source x=0.1 electrode name=drain x=1.1 electrode name=gate x=0.6 electrode name=backside backside 命令讲解: 26、ALTAS读入器件结构命令: mash= infile = “nmos.str” 命令讲解: 26、ALTAS设置器件模型命令: model srh cvt blotzman print temperature=100 mobility bn.cvt=...... 命令讲解: 26、ALTAS设置接触命令: contact name=gate n.poly 命令讲解: 27、ALTAS设置界面特性命令: Interface s.n=0 s.p=0 qf=3e10 命令讲解: 28、ALTAS设置数值计
显示全部