西安电子科技大学考研专业课801半导体物理器件物理与集成电路习题解析.pdf
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西安电子科技大学《801半导体物理、器件物理与集成电路》习题解析
第 1讲 半导体中的电子状态(一)
1.证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。即:v(k)=-v(-k),并
解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。
2.已知一维晶体的电子能带可写成:
2 7 1
h
E(k)= ( -cos2ka+ cos6ka)
π π
2 8 8
ma
0
式中,a为晶格常数。试求:
(1)能带的宽度;
(2)能带底部和顶部电子的有效质量。
3.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量E(k)和价带极大值附近能量E(k)分别为:
c v
2 2 2 2 2 2 2 2
hk h(k-k) hk 3hk
E(k)= + 1 和E(k)= 1 - ;
C 3m m v 6m m
0 0 0 0
m为电子惯性质量,k=1/2a;a=0314nm。试求: 禁带宽度;
0 1 ①
②导带底电子有效质量;
③价带顶电子有效质量;
④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
2 7
4.晶格常数为025nm的一维晶格,当外加10V/m,10V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动
到能带顶所需的时间。
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第2讲 半导体中的电子状态(二)
1.什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。
2.试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。
3.试指出空穴的主要特征。
4.简述Ge、Si和GaAS的能带结构的主要特征。
5.某一维晶体的电子能带为E(K)=E[1-01cos(ka)-03sin(ka)]
0
-11
其中E=3eV,晶格常数a=5x10 m。求:
0
(1)能带宽度;
(2)能带底和能带顶的有效质量。
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第3讲 半导体中的杂质和缺陷能级
例题:
例1 半导体硅单晶的介电常数 =118,电子和空穴的有效质量各为m =097m,m =019m和
ε
r nl 0 nl 0
m =016m,m =053m,利用类氢模型估计:
pl 0 pt 0
(1)施主和受主电离能;
(2)基态电子轨道半径r。
1
思考题:
1.什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?
2.什么叫施主?什么叫施主电离?施主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出n型
半导体。
3.什么叫受主?什么叫受主电离?受主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出p型
半导体。
4.掺杂半导体与本征半导体之间有何差异?试举例说明掺杂对半导体的导电性能的影响。
5.两性杂质和其它杂质有何异同?
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