西安电子科技大学考研专业课801半导体物理器件物理与集成电路模拟题解析.pdf
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西安电子科技大学《801半导体物理、器件物理与集成电路》模拟题解析
第 1讲 模拟题一解析(一)
一、填空
1.金刚石每个原子周围有四个最邻近的原子,这四个原子处于 1 的顶角上,任一顶角上的
原子和中心原子各贡献一个 2 为该两个原子所共有,并形成稳定的 3 结构。共价键夹
角 4 。
2.与绝缘体相比,
5 的禁带宽度比较小,数量级在 6 eV左右,在通常温度下已有不少电
子被激发到 7 中去,所以具有一定的导电能力,这是 8 和 9 的主要区别。室温下, 10
的禁带宽度为6~7eV,硅为1.12eV,锗为 11 eV,砷化镓为 12 eV,所以它们都是半导体。
3.晶体中电子所遵守的薛定谔方程: 13 ;布洛赫曾经证明,满足该薛定谔方程的波函数一
定具有如下形式:
14 ;式中 15 为波矢, 16 是一个与晶格同周期的周期性函数,
即:
17 。
4.在 18 简并半导体中,杂质浓度 19 ,杂质原子互相间很 20 ,被杂质原子束缚的电子
的 21 显著重叠,杂质电子就有可能在杂质原子之间产生 22 ,从而使 25 杂质能级扩展为
23 ,通常称为 24 。
5.半导体中的散射机构包括 25 26 27 28 29 和 30 。在半导体硅
中以 31 和 32 为主。
6.当半导体的平衡态遭到破坏而存在 33 ,可以认为,分别就价带和导带中的电子价,它们各
自基本上处于 34 ,而导带和价带之间处于 35 。因而费米能级和统计分布函数对导带和价
带 36 ,可以分别引入 37 和 38 ,它们都是 39 ,称为 40 。
7.MOS结构具有二级效应,分别是 41 、 42 、 43 。在亚阈值区域可以获得较大的增
益。但由于只有当器件宽度 W 44 或者漏电流 45 才能满足这一条件,因而亚阈值电路的
46 是非常有限的。
8.大扇入电路降低延迟的方法有: 47 48 49 和 50 。
二、简答
1.定性分析Si的电阻率与温度的变化关系。
2.证明爱因斯坦关系。
3.简述MOSFET中的五种非理想效应。
4.分析下面2个电路的逻辑功能,若所有输入高电平都是5V、输入低电平都是0V,电源电压是
5V,所有MOS管的阈值电压绝对值都是0.8V,分析2个电路的输出高、低电平和主要优缺点。
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西安电子科技大学《801半导体物理、器件物理与集成电路》模拟题解析
第2讲 模拟题一解析(二)
三、计算题
1.室温 (300K)下,半导体锗(Ge)的本征电阻率为47 ·cm,已知其电子迁移率 n和空穴迁移
Ω
2 2
率 p分别为3600cm/V·s和1700cm/V·s,试求半导体锗的本征载流子浓度ni。若掺入百万分之
一的磷(P)后,计算室温下电子浓度n和空穴浓度p和电阻率 。(假定迁移率不随掺杂而变化,杂
0 0
质全部电离并忽略少子的贡献,锗的原子密度为4.4 22 3
10/cm)
2.设一块半无限大、均匀的 n型半导体材料中,在 x=0处,产生的非平衡载流子浓度为
p(0)-p ,求它的稳态少数载流子分布。
n n0
3.(1)试证明室温下,某半导体的电子浓度n=n / 时,其电导率 为最小值(式中、ni
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