TFT-LCD工艺设计重点培训.ppt

TFT工艺设计培训;TFT是什么呢？;认识TFT;TFT元件的运作原理;TFT元件的运作原理;(b)电路图;存储电容;V;Array 面板信号传输说明;TFT-LCD面板构造;Array 面板说明;单一像素结构;Array面板示意图（480*234）; A-Si TFT的设计;A-Si TFT器件的设计（1）;在a-Si TFT器件设计过程中，栅与源、漏电极交叠大小也是影响a-Si TFT-LCD图象显示品质的一个重要参数。寄生电容Cgd会引起加在液晶象素上的信号电压变化，从而造成显示图象的闪烁现象及显示灰度级的错乱。另外，a-Si TFT器件各层薄膜厚度的设计是影响a-Si TFT-LCD 阵列成品率的关键因素，过厚或过薄的膜厚都将引起电极之间的短路或断路缺陷。 ;TFT阵列单元像素设计;TFT阵列设计;像素的Delta排列;阵列基板的布局和配线;Gate金属设计规则;Gate金属设计规则;Si岛的规则;Si岛的规则;接触孔设计规则;TFT工艺实现;ＴＦＴ制作工艺技术;成膜技术;真空技术;真空技术;真空测量;等离子基础知识;等离子的主要特性;化学气相沉积技术（CVD）;影响CVD成膜的关键因素;1、溅射现象（ SPUTTER） 用带有几十电子伏以上动能的粒子或粒子束照射固体表面，靠近固体表面的原子会获得入射粒子所带能量的一部分进而在真 空中放出，这种现象称为溅射。由于离子易于在电磁场中加速或偏转，所以荷能粒子一般为 离子，这种溅射称为离子溅射。溅射现象广泛用于样而表面的刻蚀及表面镀膜等。相应于每一个入射离子所放出的样品原子数定义为溅射产额。 2、离子溅射成膜原理 在一定真空条件下，通过外加电、磁场的作用，将介质气体电离，气体离子在电场作用下加速并轰击靶材，靶材表面粒子获得能量后飞溅到真空中，沉积到基板表面形成一层沉积膜。 ;影响溅射成膜的因素;光刻技术（1）;光刻技术（2）;光刻技术（3）;光刻技术（4）;光刻技术（5）;光刻技术（6）;光刻技术（7）;刻蚀技术;干法刻蚀技术;　;湿法刻蚀技术;湿法刻蚀技术;谢谢大家！ 2005-7-15