Ge纳米多层膜的结构、磁性质和输运特性的开题报告.pdf

Fe/Ge纳米多层膜的结构、磁性质和输运特性的开

题报告

引言：

纳米多层膜是由数nm到数百nm厚度的多层膜材料构成，近年来

受到广泛的研究和应用。这种薄膜材料由于具有优异的物理、化学、磁

学和传输特性，已经在纳电子学、磁性储存、生物传感器和光电子器件

等领域得到广泛应用。本文中将探讨Fe/Ge纳米多层膜的结构、磁性质

和输运特性。

研究内容：

1.Fe/Ge纳米多层膜制备与结构表征

Fe/Ge纳米多层膜的制备可采用磁控溅射、分子束外延和化学气相

沉积等方法。本文中将以磁控溅射法为例，制备Fe(0.8nm)/Ge(xnm)多

层膜，并利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对其进行表征，

探究其物理结构和晶体结构等特性。

2.Fe/Ge纳米多层膜的磁性质

磁性是Fe/Ge纳米多层膜的重要性质之一。在这方面，磁性测量系

统(VSM)可用于研究其磁学特性。本文中将通过VSM研究Fe/Ge多层膜

的饱和磁密度、矫顽力等磁学参数，以及厚度、温度等造成的磁学变化。

3.Fe/Ge纳米多层膜的输运特性

Fe/Ge多层膜具有优异的输运特性。本文中将采用霍尔效应和电阻

率测量研究其输运特性。同时，还将探讨厚度和温度等因素对其输运特

性的影响。

结论：

通过对Fe/Ge纳米多层膜结构、磁性质和输运特性的研究，可以深

入了解其重要性质。这对于进一步研究和应用纳米多层膜有着重要的意

义。