铁电薄膜漏电流研究现状.pdf

绝缘材料 2006 , 39 ( 4) 杨 艳等 : 铁电薄膜漏电流研究现状 5 1 铁电薄膜漏电流研究现状 杨 艳 , 张树人 , 刘敬松 , 张洪伟 , 刘 蒙 ( 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 , 成都 6 10054) 摘要 :铁电薄膜的漏电流问题一直是困扰铁电存储器发展的重要问题 。文章介绍了铁电薄膜的主要导电机理如热激发电子 ( ) 电导、空间电荷限制电流 SCL C 、Pool - Frenkel 发射 、肖特基发射等 ,影响漏电流大小的主要因素如薄膜厚度 、工艺温度 、 晶粒尺寸 、电极材料 、搀杂离子等 。同时介绍了漏电流对铁电薄膜极化和抗疲劳特性的影响 。 关键词 :铁电薄膜 ;漏电流 ;导电机理 中图分类号 : TM 22 . 1 文献标志码 :A 文章编号 : 1009 - 9239 (2006) 04 - 005 1 - 05 L ea ka ge Current of Ferroel ectr ic Thin Fil ms YAN G Ya n , ZHAN G Sh u- r e n , L IU J i n g- s on g , ZHAN G Hon g- w ei , L IU M e n g ( S t ate Ke L ab o Elect ron ic T hi n Fi l ms a n d I n te r ate d D ev ices , y f g U ES T C , Che ng d u 610054 , Chi n a ) Abstract : Th e de v el op m e n t of f e r r oel e ct r i c m e m or y w a s al w ay s w or r i e d b y t h e l e a k a g e c u r r e n t of f e r r oel e ct r i c t hi n f il m s . Th e t h e r m al el e ct r i c c on du ct i on , sp a c e c h a r g e li mi t e d c u r r e n t ( S CL C) , Pool - F r e n k el e mi s si on a n d Sc h ot t k y e mi s si on w e r e ou t li n e d t o e xp l ai n e d c on du ct i v e m e c h a ni s m . Th e f a ct or s of l e a k a g e c u r r e n t i n cl u di n g t hi c k n e s s of f il m s , t e mp e r at u r e , g r ai n siz e , el e ct