FeNi多层膜的结构与磁性研究的中期报告.docx

FeNi多层膜的结构与磁性研究的中期报告 本次研究旨在研究FeNi多层膜的结构与磁性，通过不同的制备条件和制备方法，分别制备了FeNi多层膜样品，并对样品进行了详细的结构和磁性表征。 首先，我们采用了磁控溅射法制备了FeNi多层膜样品。在制备过程中，我们改变了不同的制备条件，包括溅射功率、衬底温度等，以获得不同的样品。通过X射线衍射仪（XRD）测量，我们发现样品在所有制备条件下都呈现出强磁性，且晶体结构为fcc结构。同时，我们还利用原子力显微镜（AFM）对样品进行了表面形貌和厚度的测量，得出了样品的平均厚度约为50nm-100nm之间。 接着，我们进行了磁性研究，测量了样品的磁化曲线(M-H曲线)和磁光光谱。其中，M-H曲线的测量结果显示，样品在所有制备条件下都表现出强磁性，饱和磁化强度为1.5T-2.5T之间。此外，我们利用磁光光谱技术对样品的磁相互作用进行了研究，发现样品的磁交换和磁异向性能均较强。 综上所述，我们通过制备FeNi多层膜样品并进行了详细的结构和磁性表征，发现所有样品均表现出强磁性，并具有较强的磁异向效应和磁交换作用。我们的研究结果为FeNi多层膜在磁性材料方面的应用提供了一定的实验依据。