氮化硅薄膜热性能测试研究.pdf
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氮化硅薄膜制备技术.ppt
关于氮化硅薄膜制备技术什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相 比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层第2页,共12页，星期六，2024年，5月与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域第3页,共12页，星期六，2024年，5月氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能、稳定性
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关于氮化硅薄膜制备技术什么叫做光学薄膜？所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相 比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层第2页,共12页，2024年2月25日，星期天与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域第3页,共12页，2024年2月25日，星期天氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能
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氮化硅薄膜制备技术.ppt
氮化硅薄膜
----制备技术介绍02所谓光学薄膜，首先它应该是薄的然后它应该会产生一定光学效应的那么要薄到什么程度呢？定性的讲：它的厚度应该和入射光波长可以相 比拟的物理意义上讲：能引起光的干涉现象的膜层01什么叫做光学薄膜？与镀膜技术密切相关的产业眼镜镀膜----AR幕墙玻璃----AR滤光片液晶领域----ITO膜车灯、冷光镜、舞台灯光滤光片光通信领域：DWDM、光纤薄膜器件红外膜激光领域----激光反射腔高反射膜CD、DVD驱动器投影显示数码领域氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料，具有优秀的光电性能、钝化性能、稳定性能和机械性能，在微电子、光电和材料表面改性等领域有着广阔的应用前景
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亚微米氮化硅粉体的分性能研究论文.doc
北方民族大学
学士学位论文
论文题目:亚微米氮化硅粉体的分散性能研究
院(部)名 称: 材料科学与工程学院
学 生 姓 名:
专 业: 材料科学与工程 学 号:
指导教师姓名:
论文提交时间: 2010年5月24日
论文答辩时间: 2010年5月29日
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动态烧锻氮化硅陶瓷工艺性能研究.docx
动态烧锻氮化硅陶瓷工艺性能研究
一、引言
氮化硅（Si3N4）陶瓷作为一种重要的工程陶瓷材料，因其高硬度、高强度、良好的耐热性及化学稳定性，被广泛应用于机械、化工、电子等领域。动态烧锻技术是近年来新兴的一种陶瓷加工技术，其通过控制烧结过程中的动态参数，实现对陶瓷材料的微观结构和性能的调控。本研究旨在探讨动态烧锻技术对氮化硅陶瓷的工艺性能影响，为氮化硅陶瓷的进一步应用提供理论依据。
二、氮化硅陶瓷材料及动态烧锻技术概述
氮化硅陶瓷是一种由硅和氮元素组成的化合物，具有高硬度、高强度、良好的耐热性和化学稳定性。动态烧锻技术是一种新型的陶瓷加工技术，其通过控制烧结过程中的温度、压力、气氛等动态参数，实
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低温致密化氮化硅陶瓷的方法与性能研究.pdf
低温致密化氮化硅陶瓷的方法与性能研究
摘要
低温致密化是突破氮化硅陶瓷工程应用瓶颈的关键化技术，针对企业1200℃烧结
致密氮化硅陶瓷的研发需求，开展玻璃粉烧结助剂对氮化硅陶瓷低温烧结致密化行为影
响的研究。选用三类玻璃粉作为烧结助剂，解析烧结温度、保温时间、烧结助剂含量、
烧结助剂配比等参数对氮化硅陶瓷低温致密化行为的影响，测试低温烧结氮化硅陶瓷的
性能，确定氮化硅陶瓷低温致密化的烧结助剂及工艺。本文主要研究内容及结果如下：
（1）研究商用玻璃粉烧结助剂对氮化硅陶瓷低温致密化的影响。通过对商用玻璃
粉含量的调节，分析助剂含量对氮化硅陶瓷低温致密化的影响。当添加25wt.%的商用
玻璃粉助剂，
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PECVD氮化硅薄膜的性能对太阳能电池的影响分析.doc
PECVD氮化硅薄膜的性能对太阳能电池的影响分析
摘 要
作为一种器件表面介质膜，SiNx薄膜已被广泛应用于IC以及太阳能光伏器件的制造中。在高效太阳能电池研究中，发射结表面钝化和减反射一直是其研究的主题。电池正面发射结不仅要求表面钝化层有优良的钝化性能，同时也要求介质层能够与表面层减反射膜一起产生很好的减反射效果，从而进一步提高太阳电池器件的光生电流、开路电压以及电池效率。
本文阐述了高效太阳电池研究中正面发射结上的钝化与减反射工艺与原理，重点对PECVD法制备SiNx的钝化机制，H 钝化进行了详细的分析。主要对生产中常使用的管式PECVD和板式PECVD制备的薄膜，通过少子寿命测试仪(W
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薄膜之氮化硅薄膜的PECVD生长题稿.ppt
射频功率 射频功率是PECVD 工艺中最重要的参数之一。 当射频功率较小时, 气体尚不能充分电离, 激活效率低, 反应物浓度小, 薄膜针孔多且均匀性较差, 抗腐蚀性能差; 当射频功率增大时, 气体激活效率提高, 反应物浓度增大, 并且等离子体气体对衬底有一定的轰击作用使生长的氮化硅薄膜结构致密, 提高了膜的抗腐蚀性能;但射频功率不能过大, 否则沉积速率过快, 会出现类似“溅射” 现象影响薄膜性质 PECVD 法生长氮化硅薄膜 PECVD介绍 氮化硅薄膜介绍 生成环节介绍 主要内容： 薄膜制备方式 物理气相沉积(PVD) 化学气相沉积(CVD) 磁控溅射镀膜 离子束溅射镀膜 脉冲激光沉积镀
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氮化硅薄膜材料的PECVD制备及其光学性质研究.docx
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氮化硅薄膜材料的PECVD制备及其光学性质研究
一、氮化硅薄膜材料的PECVD制备方法
(1)氮化硅薄膜的化学气相沉积（PECVD）制备方法是一种常用的薄膜制备技术，其基本原理是在低压条件下，通过等离子体激发反应气体，使其在基板上沉积形成薄膜。该技术具有沉积速率快、薄膜均匀性好、成膜温度低等优点。在PECVD过程中，常用的反应气体包括硅烷（SiH4）、氨气（NH3）和氧气（O2）等。例如，在制备氮化硅薄膜时，通常采用硅烷和氨气作为反应气体，通过调节反应气体的流量和压力，可以控制薄膜的厚度和成分。研究表明，在一定的工艺参数下，氮化硅薄膜的厚度可以达到1微米以上，且具有优异的机械性
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磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的任务书.docx
磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的任务书
任务书
任务名称：磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究
任务目的：
1.研究磁控溅射制备氮化硅薄膜的工艺参数对于薄膜性质的影响。
2.分析氮化硅薄膜的机械性能、光学性能、电学性能等特性。
3.探究氮化硅薄膜在微电子、光电子等领域的应用前景。
任务细节：
1.通过文献调研，明确磁控溅射制备氮化硅薄膜的原理和设备工艺。
2.设计实验方案，选择合适的工艺参数和实验方法，制备氮化硅薄膜并对薄膜进行表征。
3.对实验数据进行分析和处理，研究工艺参数和薄膜性质之间的关系。
4.测量氮化硅薄膜的机械性能，如硬度、弹性模量等，并探究其形变行为。
5.测量氮化硅薄膜的光学性能，
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磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的开题报告.docx
磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究的开题报告
【摘要】
氮化硅薄膜因其优异的机械、光学和电学性能，在微电子、光电子、光纤通信等领域得到了广泛应用。本文基于磁控溅射技术制备氮化硅薄膜，并从薄膜的微观结构、光学性能、电学性能等方面对其进行研究和分析。
【关键词】氮化硅薄膜；磁控溅射；微观结构；光学性能；电学性能
【第一章绪论】
1.1研究背景
氮化硅薄膜是一种具有广泛应用前景的新型材料，因其在微电子、光电子、光纤通信等领域具有重要应用价值。近年来，随着科技的发展，氮化硅薄膜在半导体工业中使用越来越广泛，已经成为半导体电子器件中重要的材料之一。氮化硅薄膜具有很好的光学、机械和电学性质，在微电子和光电子工
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LPCVD制备的富硅氮化硅薄膜的发光机理研究的开题报告.pdf
LPCVD制备的富硅氮化硅薄膜的发光机理研究的开
题报告
一、选题背景
随着现代微电子技术的发展，薄膜材料作为微电子器件中的重要材
料得到了广泛应用。其中，氮化硅（SiNx）具有广泛的应用前景，可用
于光学薄膜、光电二极管、太阳能电池等领域。近年来，富硅氮化硅薄
膜的发光性质受到极大关注，它在消费电子、光通信和生物医学等领域
具有广泛的应用前景。目前，用于发光的富硅氮化硅薄膜的制备方法主
要包括PECVD、ICP-CVD和LPCVD等。
LPCVD（lowpressurechemicalvapordeposition）是目前制备高质
量富硅氮化硅薄膜的主要方式之一，其可提供低缺陷密度、高致密度
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氮化硅陶瓷热导率研究.pptx
主讲人：氮化硅陶瓷热导率研究
目录01.氮化硅陶瓷简介02.热导率基础概念03.影响热导率的因素04.改善热导率的策略05.案例分析与展望
氮化硅陶瓷简介01
材料特性氮化硅陶瓷具有极高的硬度和耐磨性，常用于制造切削工具和轴承。高硬度和耐磨性该材料能在高温环境下保持稳定，广泛应用于航空航天和汽车工业。优异的热稳定性氮化硅陶瓷的电绝缘性能优异，适用于制作高温绝缘部件和电子封装材料。良好的电绝缘性由于其低热膨胀系数，氮化硅陶瓷在温度变化剧烈的环境中表现出色，用于精密仪器部件。低热膨胀系数
应用领域氮化硅陶瓷因其耐高温、高强度特性，在航空航天领域被广泛应用于发动机部件。航空航天领域01在电子封装领域
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2025年氮化硅薄膜市场分析报告.docx
研究报告
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2025年氮化硅薄膜市场分析报告
一、市场概述
1.氮化硅薄膜市场发展背景
(1)氮化硅薄膜作为一种高性能陶瓷材料，具有优异的机械性能、热稳定性和耐腐蚀性，广泛应用于航空航天、汽车制造、电子信息、医疗器械等领域。近年来，随着全球工业化和信息化的快速发展，氮化硅薄膜市场需求不断增长，市场潜力巨大。特别是在高性能陶瓷涂层、光学器件、传感器等领域，氮化硅薄膜凭借其独特的物理化学性质，已成为不可或缺的关键材料。
(2)氮化硅薄膜的生产技术不断进步，尤其是分子束外延（MBE）、磁控溅射、化学气相沉积（CVD）等技术的应用，使得氮化硅薄膜的制备质量和产量得到了显著提升。与此同时，