专题二化学工艺流程题(学生版)解析.doc

专题二 化学工艺流程真题试做 ⑴LiCoO2中，Co元素的化合价为_________。 ⑵写出“正极碱浸”中发生反应的离子方程式_____________________________。 ⑶酸浸”一般在80℃下进行，写出该步骤中发生的所有氧化还原反应的化学方程式_____ ⑷可用盐酸代替H2SO4和H2O2的混合液，但缺点是___________________________。 ⑸写出“沉钴”过程中发生反应的化学方程式______________________。 ⑹充放电过程中，发生LiCoO2与Li1-xCoO2之间的转化，写出放电时电池反应方程式__________________________________。 ⑺上述工艺中，“放电处理”有利于锂在正极的回收，其原因是___________________________在整个回收工艺中，可回收到的金属化合物有__________________________(填化学式)。 解题方法的归纳与总结 读正文 ，找信息 ， 灵活运用 看框内 ，看框外 ， 里外结合 边分析 ，边思考 ， 易处着手 先局部 ，后全盘 ， 逐步深入 三、常见的工业生产流程的主线和核心 规律：主线主产品、分支副产品、回头为循环。 核心考点：物质的分离操作、除杂试剂的选择、生产条件的控制、三废处理及能量的综合利用等。 原料处理的方法和作用 研磨：增大接触面积，加快溶解或反应速率。 ①水浸：与水接触溶解或反应，可通过延长时间、搅拌或适当升温来加速，以提高浸出率。②酸浸：与酸接触反应而溶解，使可溶性离子进入溶液，不溶物通过过滤除去。可通过适当增大酸的浓度、升温和强力搅拌等加快反应速率。③碱浸(碱洗) 除去油污或氧化膜;溶解铝和二氧化硅 ⑶过滤: 不溶物通过过滤除去 ⑷水洗 除去水溶性杂质 ⑸灼烧：除去可燃性杂质或使原料初步转化。 煅烧：改变结构，使一些物质在后续过程中易溶解，并可使一些杂质(如有机物)在高温下氧化、分解。实验条件的控制和目的 调节溶液的pH值：而达到分离的目的，抑制某些离子的水解，防止某些离子的氧化等。在题目中常以表格形式给出信息。 ⑵控制体系的温度 ．控制低温：防止物质的分解，如NaHCO3、NH4HCO3、H2O2、HNO3(浓)等；防止物质的挥发，如盐酸、醋酸等；抑制物质的水解；增大气体反应物的溶解度，使其被充分吸收。 采取加热：加速某固体的溶解，加快反应速率；减少气体生成物的溶解并使其逸出；控制范围：确保催化剂的催化效果，兼顾速率和转化率，追求更好的经济效益，防止副反应发生等。 温度过低，物质无法挥发或者反应 趁热过滤，防止某物质降温时因析出而损耗或带入新的杂质。 （1）过滤 基本操作：一贴二低三靠 （2）结晶 当溶液为单一溶质时： 所得晶体不带结晶水，如NaCl、KNO3等：蒸发结晶 所得晶体带结晶水，如胆矾等：将滤液蒸发浓缩、冷却结晶、过滤。 当溶液为两种以上溶质时： 要得到溶解度受温度影响小的溶质：蒸发浓缩结晶，趁热过滤 要得到溶解度受温度影响大的溶质：蒸发浓缩、冷却结晶，过滤、洗涤、干燥。 （3）重结晶 （4）洗涤 洗涤： 检验： （5）干燥 在干燥器隔绝空气的条件下低温烘干 （6）灼烧 固体在坩埚中进行加热 （7）分液 打开分液漏斗活塞，下层液体从下口放出；上层液体从上口倒出 （8）重复操作 6、物质分离或提纯常用的化学方法 溶解法：利用特殊溶剂把杂质溶解而除去，如Fe(Al)可用过量的NaOH溶液而除去Al，CO2(HCl、H2O)先通过饱和食盐水，再通过浓H2SO4。 沉淀法：a.加合适的沉淀剂(要使杂质离子充分沉淀，加入的沉淀剂必须过量，且在后续步骤中易除去)。b.调节溶液的酸碱性。 洗涤法：a.水洗，b.冰水洗，c.有机溶剂洗，其目的是：洗去目标物表面的杂质离子；减少目标物的溶解损耗或增大有机杂质的溶解量；防止目标物形成结晶水合物；使晶体快速干燥。 可循环物质的判断 流程图中回头箭头的物质 生产流程中后面新生成或新分离的物质(不要忽视结晶后的母液)，可能是前面某一步反应的相关物质。 （1）对工艺流程题有没有整体、清晰的认识？ 了解化学工艺流程的主线； （2）对工艺流程相关知识点是清清楚楚，还是模模糊糊？了解化学工艺流程考什么？ （3）叙述性