《半导体制造工艺》学习笔记.pdf
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《芯片制造-半导体工艺制程实用教程》
学习笔记
整理:Anndi 来源: 电子胶水学习指南()
本人主要从事 IC 封装化学材料(电子胶水)工作,为更好的理解 IC 封装产业的动态和技术,自学了《芯片制
造-半导体工艺制程实用教程》,貌似一本不错的教材,在此总结出一些个人的学习笔记和大家分享。此笔记原发在
本人的“电子胶水学习指南”博客中,有兴趣的朋友可以前去查看一起探讨之!
前言及序言(点击链接查看之 )1
第 1 章 半导体工业2—3
第 2 章 半导体材料和工艺化学品4—5
第 3 章 晶圆制备6
第 4 章 芯片制造概述7—8
第 5 章 污染控制9—10
第 6 章 工艺良品率11—12
第 7 章 氧化13—14
第 8 章 基本光刻工艺流程—从表面准备到曝光15—17
第 9 章 基本光刻工艺流程—从曝光到最终检验18—20
第10章 高级光刻工艺21—23
第 11 章 掺杂24—26
第 12 章 淀积27—29
第 13 章 金属淀积30—31
第 14 章 工艺和器件评估32—33
第 15 章 晶圆加工中的商务因素34—35
第 16 章 半导体器件和集成电路的形成36
第 17 章 集成电路的类型37—38
第 18 章 封装39—41
个人感慨41
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第一章半导体工业
1、电子数字集成器和计算器(ENIAC) 18000 个真空三极管,70000 个电阻,10000
个电容,6000 个开关,耗电 150000W,成本约 400000 美元 重 30 吨,占地 140 平方米 宾
夕法尼亚的摩尔工程学院于 1947 年进行公开演示;
2、晶体管(transistor)-传输电阻器。 John Bardeen, Walter Brattin, William Shockley
共同荣获 1956 年诺贝尔物理奖;
3、每个芯片中只含有一个器件的器件称为分立器件(晶体管、二极管、电容器、电阻器)
4、集成电路(integrated circuit) 平面技术(planar technology) KilbyNoyce 共
同享有集成电路的专利;
5、集成电路中器件的尺寸(特征图形尺寸-微米)和数量时 IC 发展的两个共同标志。集
成度水平(integration level)的范围:
小规模集成电路 SSI 2-50(单位芯片内的器件数) 芯片边长约为 100mils
中规模集成电路 MSI 50-5000(单位芯片内的器件数)
大规模集成电路 LSI 5000-100000(单位芯片内的器件数)
特大规模集成电路 VLSI 100000-1000000(单位芯片内的器件数)
超大规模集成电路 ULSI 1000000(单位
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