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一种芯片化学机械抛光后清洗剂、其制备方法与用途.pdf

发布：2024-03-18约1.12万字共12页下载文档

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(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117721474A

(43)申请公布日2024.03.19

(21)申请号202311746934.5

(22)申请日2023.12.19

(71)申请人江苏奥首材料科技有限公司

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