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半导体器件物理习题与参考文献.pdf

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第一章习题

aE(k)

1–1.设晶格常数为的一维晶体,导带极小值附近能量为:

c

222(kk)2

k

E(k)1

c3mm

2222

k3k

价带极大值附近的能量为:E(k)式中m为电子能量,

v6mm

k,a3.14A,试求:

1a

(1)禁带宽度;

(2)导带底电子的有效质量;

(3)价带顶空穴的有效质量。

1–2.在一维情况下:

k

(1)利用周期性边界条件证明:表示独立状态的值数目等于晶体的原胞数;

2k2

(2)设电子能量为E,并考虑到电子的自旋可以有两种不同的取向,试

2m*

n

2m*

证明在单位长度的晶体中单位能量间隔的状态数为N(E)nE12。

h

1–3.设硅晶体电子中电子的纵向有效质量为m,横向有效质量为m

Lt

(1)如果外加电场沿[100]方向,试分别写出在[100]和[001]方向能谷中电子的加

速度;

(2)如果外加电场沿[110]方向,试求出[100]方向能谷中电子的加速度和电场之

间的夹角。

2k2

1–4.设导带底在布里渊中心,导带底E附近的电子能量可以表示为E(k)E

cc2m*

n

式中m*是电子的有效质量。试在二维和三维两种情况下,分别求出导带附近的状

n

态密度。

1–5.一块硅片掺磷1015原子/cm3。求室温下(300K)的载流子浓度和费米能级。

nNaxaNNeax

1–6.若型半导体中(a),式中为常数;(b)推导出其中的

d

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