GB/T 15827-1995离子镀 仿金氮化钛的颜色.pdf
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等离子辅助沉积电弧离子镀制备氮化钛膜研究.doc
负偏压对电弧离子镀氮化钛膜性能的影响研究
中文摘要：
电弧离子镀是一种物理气相沉积(PVD)镀膜技术.自80年代以来，随着离子镀TiN工艺逐渐完善和镀膜质量的提高，它已成为在工业领域应用最为广泛的制备硬质膜产业化方法。
TiN 处理高速钢刀具，大大延长了使用寿命，减少了更换刀具的次数和时间，提高了切削速度，使机械加工技术发生了一次质的飞跃。因此，研究不同材料与TiN薄膜的生长机理和工艺是研究和应用热点之一.
优化电弧离子镀工艺，制备高质量的TiN薄膜，不仅在基础研究方面，而且在应用方面都具有重要的现实意义。材料表面生长超硬膜的工艺条件决定了其化学组分及其微结构，而材料的结构又直接影响薄膜的机
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纳米氮化钛的.doc
纳米氮化钛粉体性能特点 本产品纯度高，粒径小，比表面积大，表面活性高，该材料具有良好的导电性，可用作熔盐电解的电极和电触头等导电材料主要参数
三、主要用途
1、在纳米氮化钛PET啤酒瓶及塑料包装材料上高阻隔的应用：采用纳米TiN复合材料阻隔技术，将Nano- TiN与PET树脂复合形成复合材料，这些纳米粒子能够阻塞分子间隙，使气体难以扩散渗透，从而提高了PET树脂瓶的阻隔性。由于加入的纳米材料数量非常少，这种材料可以在现有的各种制瓶机上直接应用，不需要更新设备。产品保持PET瓶无色透明的外观，其阻隔性能提高10倍以上，添加比例仅为千分之一。
2、在PET工程塑料里的应用：纳米少量
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氮化钛制备工艺.docx
镀工艺挨次为：抽真空至6.7×10-3Pa，通入Ar气，当炉内压强为
2.0Pa时基体加载负偏压-800V，进展Ar气溅射清洗试件外表
10min。清洗后再次抽真空至6.7×10-3Pa，翻开钛靶对试样进展轰击。钛靶轰击不但有清洗活化试件外表的作用，还可以加热试件，并在试件外表形成一层纳米级的纯钛过渡层，进一步提高基体和膜层之间的结合强度。镀膜参数为：N2分压0.8Pa，基体加载的负偏压0～
-500V，钛靶电流为60A，铝靶电流为60A，交替沉积TiN和TiAlN膜层
辉光清洗原理及作用
尽管待镀工件的外表进展了严格的化学清洗处理，但化学清洗很难彻底
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离子镀黑色装饰膜.pdf
离子镀黑色装饰膜
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苏东艺 梁献文 袁镇海
（1 广州今泰科技有限公司 510620； 2 广州有色金属研究院 510651）
摘要：本文综述近年来离子镀黑色装饰膜的发展状况，包括流行的黑色装饰膜系、应用、主要制备技术、反应离子
镀 TiC+C 膜的工艺参数、沉积黑色膜的主要缺陷形式与成因，最后就 TiC+C
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多弧离子镀原理.pdf
多弧离子镀
离子镀膜
真空离子镀膜于1963年由D.M.Mattox提出，并开始实验。1971年
Chamber等发表电子束离子镀技术，1972年B报告了反应蒸发镀（ARE）技
术，并制作了TIN及TIC超硬膜。同年，MOLEY和SMITH将空心阴极技术应
用于镀膜。20世纪八十年代，国内又相继出现了多弧离子镀及电弧放电高
真空离子镀，至此离子镀达到工业应用水平。
离子镀膜原理及种类：
离子镀是真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离
子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。
离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不
仅能明显地改进了
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氮化钛膜制备方法和装置.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113388825 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202110568361.6
(22)申请日 2021.05.25
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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GB/T 15608-1995中国颜色体系.pdf
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GB/T 3181-1995漆膜颜色标准.pdf
华 人民 共和 国 国家标准
漆 膜 颜 色 标 准 代替
主题内容与适用范围
本标准规定了色漆漆膜的颜色标准及其使用方法
本标准适用于色漆及相关产品生产和使用部门 对配制和选择颜色起指导作用 它应结合
漆膜颜色标准样卡一起使用
引用标准
漆膜一般制备法
物体色的测量方法
颜色术语
漆膜颜色表示方法
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GB/T 3181-1995漆膜颜色标准.pdf
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离子镀及其他PVD方法.ppt
薄膜材料制备技术
ThinFilmMaterials;第四讲;提要;还有一些不能简单划归蒸发、溅射法的PVD方法，它们针对特定的应用目的，或是将不同的手段结合在一起，或是对上述的某一种方法进行了较大程度的改进，如;离子镀——引言;定义??离子镀是一种在等离子体存在的情况下，对衬底施加偏压,即在离子对衬底和薄膜发生持续轰击的条件下制备薄膜的PVD技术
在离子镀的过程中，沉积前和沉积过程中的衬底和薄膜外表经受着相当数量的高能离子和大量的高能中性粒子流的轰击
离子镀可以被看成是一种混合型的薄膜制备方法??它兼有蒸发法和溅射法的优点;离子镀技术——开展历史;最有代表性的
二极直流放电离子镀装置的示意图
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离子镀技术及应用研讨.ppt
离子镀技术及应用 什么是离子镀 离子镀在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。 其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。 离子镀的历史 离子镀的工作过程 蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生弧光放电。由于真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。 带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀
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第四章-离子镀.ppt
第四章 离 子 镀 膜 主要内容 离子镀原理 离子镀的特点 离子轰击 离子镀的类型 离子镀膜技术(简称离子镀)是美国Sandia公司的D. M. Mattox于1963年首无提出来的，是在真空蒸发和真空溅射技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术。 离子镀的英文全称ion plating，简称IP。它是在真空条件下，应用气体放电实现镀膜，即在真空室中使气体或被蒸发物质电离，在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。 离子镀把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发技术结合在一起，不但显著提高了淀积薄膜的各种性能，而且大大扩展了镀膜技术的应用范围。 与蒸发镀膜和溅射镀膜
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超细碳氮化钛粉末及其制备方法.docx
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超细碳氮化钛粉末及其制备方法
一、超细碳氮化钛粉末概述
(1)超细碳氮化钛粉末是一种新型的纳米材料，其粒径通常在100纳米以下，具有优异的物理化学性能。这种粉末的制备和应用技术在我国近年来得到了迅速发展，已成为高性能材料研究的热点。根据相关数据显示，超细碳氮化钛粉末的密度约为6.25克/立方厘米，熔点高达约2950摄氏度，同时具有极高的硬度和良好的耐磨性。
(2)在微观结构上，超细碳氮化钛粉末呈现出独特的晶体结构，其晶粒尺寸小于100纳米，这使得材料在高温下仍能保持良好的稳定性和耐腐蚀性。在实际应用中，超细碳氮化钛粉末已被广泛用于航空航天、医疗器械、能源等领域。例如，在航空航天
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氮化钛涂层硬质合金刀片.pdf
氮 化 鱿 涂 层 硬 质 合 金 刀 片
除了烧结的碳化钦硬质合金和涂复碳化 片上 的脱碳现 象减小。 这可导致刀 具和 工件
, 。
饮的碳化钨硬质合金外 在现代新的一代刀
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氮化钛涂层高速钢刀具的应用.pdf
做
专
业
的
数
控
、维
修
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