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氮化钛制备工艺.docx

发布：2024-05-30约1.06千字共7页下载文档
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镀工艺挨次为：抽真空至6.7×10-3Pa，通入Ar气，当炉内压强为

2.0Pa时基体加载负偏压-800V，进展Ar气溅射清洗试件外表

10min。清洗后再次抽真空至6.7×10-3Pa，翻开钛靶对试样进展轰击。钛靶轰击不但有清洗活化试件外表的作用，还可以加热试件，并在试件外表形成一层纳米级的纯钛过渡层，进一步提高基体和膜层之间的结合强度。镀膜参数为：N2分压0.8Pa，基体加载的负偏压0～

-500V，钛靶电流为60A，铝靶电流为60A，交替沉积TiN和TiAlN膜层

辉光清洗原理及作用

尽管待镀工件的外表进展了严格的化学清洗处理，但化学清洗很难彻底

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