多弧离子镀CrN薄膜的制备与表征.pdf
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2007年 6月 装 甲 兵 工 程 学 院 学 报 Jun. 2007
第 21卷 第 3期 JournalofAcademyofArmoredForceEngineering V01.2l NO.3
文章编号 :1672-1497(2007)03-0078-04
多弧离子镀 CrN薄膜的制备与表征
胡佳帅 张 平 蔡志海 李 程
(装 甲兵工程学院 装备再制造技术 国防科技重点实验室 ,北京 100072)
摘 要 :应用多弧离子镀膜技术在65Mn钢基体上制备 CrN薄膜 ,通过 Nanohardness-tester、SEM、EDX和 XRD测试
分析了薄膜 的硬度 、厚度 、成分结构和表面形貌 。得到薄膜 的最高硬度为24GPa,最大厚度为 2.06 m。通过正交
实验分析得到各因素对薄膜硬度影响程度 的主次顺序是:偏压、氮气、氩气、弧流 ,对薄膜厚度影响程度 的主次顺序
是:弧流、氮气、偏压、氩气 。
关键词 :多弧离子镀 ;CrN薄膜 ;纳米硬度 ;正交实验
中图分类号 :TG174.444 文献标志码 :A
Preparation andPropertiesofCrN Coatingsby
M ulti——arcIonPlating
HU Jia-·shuai ZHANG Ping CAIZhi-·hai LICheng
(NationalDefenseKeyLaboratoryforRemanufacturingTechnology,AcademyofAmroredForceEngineering,Beijing,100072,China)
Abstract:Chromium nitridedcoatingsaredepositedonthe65Mn steelsubstratesbymeansofmulti·arc
ionplatingtechnique.Thehardness,thickness,componentstructureandsurfacemorphologyofthefilms
areanalyzedbyusingnanotestplatform 、SEM andEDX.Themaximum hardnessofthefilmsisabout24
GPa.Andthefilm ’Smaximum thicknessis2.06 Ixm.TheOrthogonalexperimentshowsthatorderofde·
greestowhichthefactorsaffectthecoatings’hardnessfrom bigtosmallisbiasvoltage,nitrogen,argon
andarcflow.Andthesequencetothethicknessisarcflow ,nitrogen,biasvoltageandargon.
Keywords:multi.arcplating;CrN films;nanohardness;orthogonalexperiment
CrN薄膜具有很高 的硬度和耐磨性 ,高温抗氧 影响材料的机械性能,同时能够大幅度提高硬度和
化性和耐腐蚀性优 良,不但可作为耐磨涂层用于工 耐磨损性能,为了提高膜层和基体的结合力 ,在基体
模具和切削工具的表而强化 ,在表面防腐和装饰等 和膜层之 间需要沉积金属过渡层 。膜层 的性能
许多工业领域有重要用途 ¨ 。与已经得到广泛工 主要取决于显微结构 。一般 的 CrN膜层都具有柱
业应用 的TiN薄膜相 比,CrN薄膜的硬度更高,具有
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