PVD镀膜产品及制备工艺介绍.doc
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pvd镀膜产品及制备工艺资料.ppt
PVD镀膜产品及制备工艺介绍;目录;IP金：1N14和2N18色；
IP玫瑰金：3N、4N和5N色；
IP黑系列：枪色、钛灰色和纯黑色等。;IP紫色、IP蓝色、IP棕色。;每种颜色都可按不同的上下限色调生产---可参考色办册；
每种膜层都可依据客户要求沉积不同级别的厚度；
工件基材为碳钢、不锈钢、工具钢、钨钢、铜合金、钛合金、陶瓷、银等, 某些基材可能需先水镀底层来获得更好的附着力；
通过厚度、硬度、耐磨、耐腐蚀等测试，满足客户需求；
符合RoHS和REACH标准。;
;颜色：钢色、钛色, 可调节颜色以满足客户需求。
硬度：与基体硬度有关, 不锈钢基体上最高可达1500 HV。
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PVD镀膜工艺.doc
PVD镀膜工艺
PVD镀膜工艺
1.装饰件材料（底材）
(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。
(2)玻璃、陶瓷。
(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。
(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。
2.装饰膜种类
(1)金属基材装饰膜层：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。
(2)玻璃、陶瓷装饰膜层：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。
(3)塑料基材装饰膜层：ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。
(4)柔性材料装饰膜层：al、lto、ti02、zns等。
3.部分金属基材装饰膜颜色
金属
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pvd镀膜工艺简介新.pptx
PVD镀膜工艺简介
1
二、真空蒸发镀膜
一、PVD的定义及分类
三、真空溅射镀膜
四、真空离子镀膜
2
一、PVD的定义及分类
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物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固体物质涂层。
1.PVD的定义
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2.PVD的基本过程
从原料中发射粒子（经过蒸发、升华、溅射和分解等过程）；
粒子输运到基片（粒子之间发生碰撞，产生离化、复合、反应，
能量的交换和运动方向的变化）；
粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。
5
3.
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PVD镀膜清洗的工艺设计.docx
南京信息职业技术学院
毕业设计论文
系部环境信息学院
专业机电一体化
姓名陈成
学号316KS14
题目PVD镀膜清洗的工艺设计
指导教师朱宪忠
评阅教师
完成时间
毕业设计(论文)中文摘要
（题目）：PVD镀膜清洗的工艺设计
摘要：在液晶显示器的生产过程中，要多次使用到清洗工艺。本文就pvd镀膜前玻璃基板的清洗工艺展开设计。玻璃在生产和搬运过程中会产生尘埃颗粒，纤维纸屑，矿物油脂等油污。随着液晶显示器制备工艺的条件越来越严格，对清洗玻璃基板上的沾染物也越来越严苛。所以这道清洗工艺的作用尤为重要，一方面为避免污染物对液晶显示器的性能造成影响，另一面也可以改善玻璃基板表面性能，使其在加工过程中与
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一种咖啡机按压板PVD镀膜工艺.pdf
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114540813 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202210176458.7
(22)申请日 2022.02.24
(71)申请人 瑞鼎机电科技（昆山
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PVD制备TCO工艺总结.ppt
公司名称信息 PVD制备TCO工艺总结 AZO与GZO比较 在所有金属掺杂元素中，由于Ga和Zn原子半径相近，而且Ga-O键和Zn-O键的键长也很接近，即使在比较高的掺杂浓度下，ZnO的晶格畸变也非常小。GZO可以得到较高的电导率，而AZO则透过性更好。此外，在薄膜的生长过程中，Al表现出非常高的反应活性，易氧化，Ga相对于Al不易氧化,这是Ga作为掺杂元素的另外一个优点。 电 源 电 源 溅射类型 靶与衬底距离 AZO薄膜性能 AZO特性 掺杂浓度的影响 由于铝的掺杂使薄膜出现截止波长和吸收边蓝移的原因是：随着Al的掺入，载流子浓度增加，增加的载流子填充于导带中较
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钛灰色镀膜的制备工艺.pdf
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114561618 A
(43)申请公布日 2022.05.31
(21)申请号 202210211064.0 C23C 14/58 (2006.01)
(22)申请日 2022.03.
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第6章-PVD工艺.doc
第六章 PVD工序
6.1 PVD工艺的目的
溅射法利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被溅射的物质做成的靶电极。在离子能量合适的情况下，入射离子在与靶表面原子的碰撞过程中将后者溅射出来。这些被溅射出来的原子带有一定的动能，并且会沿着一定的方向射向衬底——玻璃基板，从而沉积在基板表面形成薄膜。
在上述薄膜沉积的过程中，离子的产生过程与等离子体的产生或气体的放电现象密切相关。
6.2 PVD工艺的基本原理
6.2.1
在介绍PVD工艺原理之前，首先简单讨论一下气体放电过程。设有如下图那样的一个直流气体放电体系。
开始：电极间无电流通过，气体原子多处于中性，只有
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镀膜产品及其制备方法.pdf
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114540764 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202210190721.8
(22)申请日 2022.02.28
(71)申请人 歌尔股份有限公司
地址 26103
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PVD真空镀膜简介.pdf
PVD 真空镀膜简介
1. PVD 的含义 — PVD 是英文Physical Vapor Deposition 的缩写，中文意思是“物理气相沉积” ，是指在真
空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD 镀膜和PVD 镀膜机 — PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀
和真空离子镀膜。对应于PVD 技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀
膜机和真空离子镀膜机这三种。 近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今
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薄膜制备技术PVD.ppt
2. PVD成膜方法与工艺 装置：真空系统、蒸发系统、基片撑架、挡板、监控系统 离子镀的优点 1、入射离子能量高，与基体的结合强度高，膜层致密，耐久性好，膜层硬度高，耐磨性好，耐蚀性好； 2、与其他表面处理工艺结合使用效果更佳 3、可镀基材广泛，可同时在不同金属材料的表面成膜，膜层的颜色均匀一致，成膜温度低而热稳定好； 4、膜层隐蔽性好 5、镀膜过程无环境污染 （2）射频辉光放电 指通过电容耦合在两电极之间加上射频电压，而在电极之间产生的放电现象。电子在变化的电场中振荡从而获得能量，并且与原子碰撞产生离子和更多的电子。 射频放电的频率范围：1-30MHz，工业用频率为1
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中国PVD镀膜项目投资计划书.docx
研究报告
PAGE
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中国PVD镀膜项目投资计划书
一、项目概述
1.1.项目背景
(1)随着全球制造业的快速发展，对高性能、高精度、长寿命的表面处理技术需求日益增长。PVD（物理气相沉积）镀膜技术作为一种先进的表面处理技术，凭借其优异的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等特性，在航空航天、电子信息、汽车制造等领域得到了广泛应用。我国政府高度重视高端装备制造业的发展，出台了一系列政策措施，鼓励企业进行技术创新和产业升级。在这样的背景下，PVD镀膜项目应运而生，旨在填补国内高端表面处理技术的空白，提升我国制造业的竞争力。
(2)我国PVD镀膜技术虽然起步较晚，但发展迅速。近年来，随着科研投入的增加和
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pvd真空镀膜设备行业分析.doc
目录
24632_WPSOffice_Level1 （一）PVD真空镀膜技术 1
27565_WPSOffice_Level1 （二）真空镀膜技术具体应用领域 2
5138_WPSOffice_Level1 （三）行业现状分析 4
25688_WPSOffice_Level1 （四）行业市场表现分析 5
9745_WPSOffice_Level1 （五）行业竞争格局分析 6
23670_WPSOffice_Level1 （六）行业与上下游的关系 6
19722_WPSOffice_Level1 （七）行业周期性、区域性、季节性特征 9
27829_WPSOffice_Leve
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一种PVD真空镀膜设备.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210314463 U
(45)授权公告日
2020.04.14
(21)申请号 20192
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PVD镀Al膜工艺研究 .pdf
作者：唐云[1];罗海辉[1];谭灿健[1];彭新华[1]
作者机构：[1]株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲412001
出版物刊名：设备管理与维修
页码：25-27页
年卷期：2020年第1期
主题词：PVD;磁控溅射;Al膜;靶材
摘要：介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的
工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,
为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。