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PVD镀Al膜工艺研究 .pdf

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作者：唐云[1];罗海辉[1];谭灿健[1];彭新华[1]

作者机构：[1]株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲412001

出版物刊名：设备管理与维修

页码：25-27页

年卷期：2020年第1期

主题词：PVD;磁控溅射;Al膜;靶材

摘要：介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的

工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,

为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。

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