退火温度对溅射铝膜结构与电性能的影响-强激光与粒子束.PDF

第 卷 第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２０ １ Ｖｏｌ．２０Ｎｏ．１ 　 　 　 年 月 ， ２００８ １ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｊａｎ．２００８ 　 　 文章编号： （ ） １００１４３２２２００８０１１５５０４ 　 退火温度对溅射铝膜结构与电性能的影响 ， ， １２ １２ １ １ １ ２ 程丙勋 ， 吴卫东 ， 何智兵 ， 许 华 ， 唐永建 ， 卢铁城 　 　 　 　 　 　 （ 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，四川 绵阳 ； 四川大学 物理系 辐射物理及技术教育部重点实验室，成都 ） １． ６２１９００ ２． ６１００６４ 摘 要： 采用直流磁控溅射方法成功地制备了 膜，研究了退火温度对 膜表面形貌、晶体结构、应 Ａｌ Ａｌ 　　 　 　 力、择优取向及反射率的影响。研究表明：不同退火温度的薄膜晶粒排布致密而光滑，均方根粗糙度小。ＸＲＤ 测试表明：不同温度退火的铝膜均成多晶状态，晶体结构为面心立方，退火温度升高到 时， 膜的应力 ４００℃ Ａｌ 最小达 ，薄膜平均晶粒尺寸由 增加到 ；随着退火温度的升高，（ ）晶面择优取向特 ０．７８ＧＰａ １８．３ｎｍ ２５．９ｎｍ ２００ 性变好。薄膜紫外 红外反射率随着退火温度的升高而增大。  关键词： 膜； 退火温度； 应力； 择优取向； 反射率 Ａｌ 　　 　 　 　 　 　 中图分类号： Ｏ８４．５ 文献标识码： Ａ 　　 　 　　　　 　 金属具有良好的导电、导热、紫外 红外高反射率、耐腐蚀、吸音和耐核辐射等优点，且价格低廉，工艺成 Ａｌ  　　 熟，因此 及其合金在电子、航空航天领域均获得了广泛的应用，已成为超大规模集成电路等元器件使用的 Ａｌ 主要金属材料之一。 在惯性约束聚变（ ）实验研究中，金属薄膜是重要的靶材料， 薄膜因有诸多的优越特性在 靶材 ＩＣＦ Ａｌ ＩＣＦ 　　 ［ ］ １３ 中应用广泛 。在薄膜靶的制备方面，对金属薄膜的形状、精度有较高的要求（表面均方根粗糙度最大峰 谷