GB/T 17866-1999掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则.pdf

前言 标准等同采用 年 标准版 微型构图 部分中的 掩模缺陷检查系统 灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准 掩模缺陷检查系统 灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 是其中的一项 它将与如下已经转化的八项国家 标准 硬面光掩模用铬薄膜 硬面光掩模基板 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范 圆形石英玻璃光掩模基板规范 光掩模对准标记规范 用于集 电路制造技术的检测图形单元规范 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则 以及与 标准同时转化的 关键尺寸 计量方法 和 焦深与最佳聚焦的测量规范 两项 标准形 一个国家标准微 型构图系列 本标准是根据 标准 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测 量方法准则 制定的 在技术内容上等同地采用了该国际标准 本标准从 年 月 日起实施 本标准由中国科学院提出 本标准由 中国标准化技术委员会归口 本标准起草单位 中国科学院微电子中心 本标准主要起草人 陈宝钦 陈森锦 廖温初 刘 明 中华人 民共和 国国家标准 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的 特制缺陷掩模和 评估测量方法准则 范围 本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模 这套测试掩模包括 含 特制图形缺陷的测试芯片 以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片 由于测试芯片是由各种单元集合而 所以在 标准中 测试芯片是用单元图形 单元图形中的特制缺陷 以及单元的布局来定义的 此外 测试掩模是通过规定测试芯片的 列来定义的 本标准还讲述这套掩模的用法 过去的设备在灵敏度 测试中 许多设备生产厂家和用户使用不同的掩模 而且每个厂家和用户各自决定不同的测试方法 在 某些情况下 迄今还没有统一的测量方法或灵敏度分析方法 所以 在对各厂家的设备进行灵敏度比较 时 在厂家与用户商定规范时 在用户与用户商定规范时 都免不了要发生混淆 所以在评估掩模缺陷检 查系统的灵敏度时 最好采用本标准规定的测试掩模 引用标准 下列标准所包含的条文 通过在 标准中引用而构 为 标准的条文 本标准出版时 所示版 均 为有效 所有标准都会被修订 使用 标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则 微电子学光掩蔽技术术语 特制缺陷的类别 本标准所述的特制缺陷是利用两种背景图形来定义的 这两种背景图形是 接触孔图形 线条套圈图形 图形的设计规则规定为 在掩模上 章对这两种背景图形中的特制缺陷进行分类 定义并编号 在接触孔图形中的特制缺陷称为 接 触孔缺陷 在线条套圈图形中的特制缺陷称为 线条套圈缺陷 接触孔缺陷的类型 接触孔缺陷分为以下 类 并分别给予编号 小点 上边突起 针孔 下边突起 国家质量技术监督局 批准 实施