曝光设备.pdf
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(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220526187U
(45)授权公告日2024.02.23
(21)申请号202322225011.7
(22)申请日2023.08.17
(73)专利权人合肥芯碁微电子装备股份有限公
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选择好对应的参数→开始曝光X线量的控制预估法预估失误本次曝光失败需要进行二次曝光，既增加了成本，也加大了被检者的辐射剂量引言
自动曝光控制系统设计理念将主观估计曝光参数变成客观测量透过患者的X线剂量而控制曝光终止的系统1929X线胶片荧光屏最大障碍思考是根源
科技才是第一生产力、科技才是核心竞争力思考是根源
从模拟到数字——质的飞越网络传输图像后处理远程会诊数字化存储无胶片污染
原理阐述
危机意识——居安思危
崛起2000年淘汰落幕2005年方向错误敝帚自珍不重视
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(71)申请人 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2025年中国曝光设备市场调查研究报告
目录
TOC\o1-3\h\z\u一、市场现状分析 3
1.市场规模与发展速度预测 3
年中国曝光设备市场规模分析 3
驱动因素与制约因素分析 4
二、市场竞争格局 6
1.主要竞争对手概述 6
国内外主要供应商分析 6
市场集中度及竞争程度 8
三、技术趋势与发展 9
1.关键技术进展与创新 9
纳米级工艺技术的应用情况 9
新型曝光设备研发动态 10
四、市场需求与应用领域 12
1.需求驱动因素分析 12
集成电路制造需求增长 12
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