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修改版-气体击穿理论.ppt

发布:2015-09-08约4.61千字共41页下载文档
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高电压技术 第二章—气体放电的物理过程 概述 常见的电场结构 问题的提出 气体中的电流:在电场作用下,气隙中带电粒子的形成和运动过程形成电流。 1、气隙中带电粒子是如何形成的? 2、气隙中的导电通道是如何形成的? 3、气隙中导电通道形成后是如何维持持续放电的? 名词解释 3:电离(游离) 原子在外界因素作用下,其电子受到激励摆脱原子核的约束而成为自由电子,这一现象称为电离 原子被分解成两种带电粒子—电子和正离子 使电子电离出来所需的最小能量称为电离能。 第一节:气体中带电质点的产生和消失 1:撞击游离 在电场作用下,电子被加速而获得动能。当电子的动能满足气体电离能时,将引起碰掩电离: 碰撞电离的形成与电场强度和电子的平均自由行程的大小有关 2:光游离 当气体分子受到光辐射时,如光子能量满足气体分子电离能条件将引起光电离,分解成电子和正离子。 导致气体光电离的光子可以由自然界(如空中的紫外线、宇宙射线等)或人为照射(如紫外线、x 射线等)提供,也可以由气体放电过程本身产生。 3:热游离 一切因气体热状态引起的电离过程称为热电离。 包括: 随着温度升高气体分子动能增加引起的碰撞电离, 高温下高能热辐射光子引起的光电离。 4:表面游离 a、正离子碰撞阴极:正离子碰撞阴极时使电子逸出金属(传递的能量要大于逸出功)。逸出的电子有一个和正离子结合成为原子,其余的成为自由电子。因此正离子必须碰撞出一个以上电子时才能出现自由电子。 b、光电效应:金属表面受到光的照射,当光子的能量大于逸出功时,金属表面放射出电子。 c、强场发射:当阴极附近所加外电场足够强时,使阴极放射出电子。 d、热电子发射:当阴极被加热到很高温度时,其中的电子获得巨大动能,逸出金属。 5:带电质点的复合 1)正离子和负离子或电子相遇,发生电荷的传递而互相中和、还原为分子的过程称为复合过程。 2)在带电质点的复合过程会以光子的形式释放能量,产生光辐射。这种光辐射在一定条件下有可能成为导致电离的因素(如流柱理论中二次电子崩的起因)。 第二节:气体放电过程一般描述 1: 电子崩 从阴极产生的第一个起始电子,从电场获得一定动能后,会碰撞电离出一个第二代电子,这两个电子作为新的第一代电子,又将电离出新的第二代电子,这时空间已存在四个自由电子,这样一代一代不断增加的过程,会使带电质点迅速增加,如同发生雪崩一样。 电子崩具显圆锥形,电子集中在崩头,尾部为正离子 第二节:气体放电过程一般描述 2:气体放电主要形式 第二节:气体放电过程一般描述 3:非自持放电和自持放电 第二节:气体放电过程一般描述 4:放电的发展过程 第三节 均匀电场气隙的击穿 1:汤逊机理 2.汤逊机理的结论 3. 巴申定律 4.汤逊机理的适用范围 超长间隙放电 5 .流注机理 电子碰撞电离:形成电子崩,是维持自持放电的主要因素 空间光电离:形成衍生电子崩,是维持自持放电的主要因素 空间电荷畸变电场的作用:为衍生崩创造了条件 流注:由大量正负离子混合形成的等离子体通道(导电性能良好) 击穿过程:电子崩——流注发展延伸——击穿 5.1电子崩空间电荷对电场的畸变 5.2正流注的产生 5.3负流注的产生 5.4流注机理的结论与巴申定律 5.5流注理论对pd很大时放电现象的解释 放电外形:流注电导很大,其中电场强度很小,对周围其他流注有“屏蔽”作用,因此最终只有一条通道;衍生崩随机性使其曲折分支。 放电时间:光子以光速传播,衍生崩跳跃式发展,因此放电发展时间很短(书上有数值) 阴极材料的影响:维持放电的是光电离而不是表面电离,因而与阴极材料无关。 第四节:不均匀电场中气体间隙的击穿 1. 不均匀电场击穿的特点 1:显著的极性效应:施加电压的极性对放电过程和击穿电压影响很大。 2:较长的放电时延:需要足够的发展时间(电压要持续一定时间才可击穿) 3:短间隙、长间隙、超长间隙各不相同 4:可能出现各种放电形式:电晕、刷状放电 5:只能用流注机理来解释 2.短间隙的击穿过程 2.短间隙的击穿过程 2.短间隙的击穿过程 3 长间隙中的先导放电 在长间隙放电中,流注汇集,形成通道状且不断发展,称为先导放电 先导通道中由于电流较大,温度很高,出现热电离,因而电导更大,可以将电极的电位传到先导通道的端部。 先导发展的速度和回路中电阻有很大关系,发展越来越快 4.长间隙的击穿过程 5.长间隙击穿的特点 6.极不均匀电场中的主放电 当先导头部流注即将到达板极时,立刻有一个放电过程从板极向棒极发展,称为主放电。 主放电发展速度比先导快得多。 主放电通道温度更高,明亮得多,电导更大,回路具有短路性质。 6.极不均匀电场中的电晕放电 电晕放电现象:尖极周围有发光层,可听到咝咝声,闻到臭氧气味。 空间电荷的作用:外层的空间电荷与尖极极性相同,使
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