磁控溅射流程图.pptx
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磁控溅射流程图;目录;01;;发展历程;应用领域与市场需求;优势;02;磁控溅射室;工作流程详解;关键工艺参数设置与调整策略;;03;;;碰撞过程中的物理化学反应;溅射产物;04;磁场对电子的约束;通过磁场的作用，增加气体分子的电离率，从而提高等离子体密度，进而提高溅射效率。;磁场强度与分布的调整策略;溅射产物的纯度;05;利用光在薄膜上下表面反射后的干涉效应来测量薄膜厚度和折射率。;X射线衍射（XRD）分析;薄膜性能测试与评价方法;薄膜应用效果及市场前景;06;开发出了多种材料的靶材，如金属、合金、陶瓷、半导体等，以满足不同领域的需求。;通过提高电源功率和脉冲频率，实现高速溅射和高效能量利用。;;节能减排技术;感谢观看
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