T_GVS 017-2024 连续式光学磁控溅射镀膜设备.pdf
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ICS23.160
CCSJ78TGVS
团体标准
T/GVS017—2024
连续式光学磁控溅射镀膜设备
Continuousopticalmagnetronsputteringcoatingequipment
2024
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T_GVS 017—2024(连续式光学磁控溅射镀膜设备).pdf
ICS23.160
CCS
J78
TGVS
团体标准
T/GVS017—2024
台
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连续式光学磁控溅射镀膜设备
信
Continuousopticalmagnetronsputteringcoatingequipment
准
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全
2024-12-24发布2024-12-24实施
广东省真空学会发布
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T/GVS017—2024
目次
前言II
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1范围1
2规范性引用文件1
3术语和定义1
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4组成2
5正常工作条件2
6技术要求3
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7试验方法4
8检验规则5
9标志、包装、运输和贮存6
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I
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《磁控溅射镀膜》.doc
磁控溅射
/wiki/%E7%A3%81%E6%8E%A7%E6%BA%85%E5%B0%84
磁控溅射是为了在低气压下进行告诉溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法。
磁控溅射-工作原理
? ? ? ?
磁控溅射的工作原理如图，电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar+和新的电子；新电子飞向基片，Ar+在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B
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中国连续式磁控溅射镀膜机行业市场占有率及投资前景预测分析报告.pdf
中国连续式磁控溅射镀膜机行业
市场占有率及投资前景预测分析
报告
博研咨询市场调研在线网
北京博研智尚信息咨询有限公司中国连续式磁控溅射镀膜机行业市场占有率及投资前景预测分析报告
中国连续式磁控溅射镀膜机行业市场占有率及投资前景
预测分析报告
正文目录
第一章中国连续
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柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210206483 U
(45)授权公告日
2020.03.31
(21)申请号 20192
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磁控溅射镀膜技术.ppt
;一、引言;;2、发展概况（1）;2、发展概况（2）;2、发展概况（3）;2、发展概况（4）;
3、国内发展情况;;
2000年和2001年豪威公司先后研制出两条新的大型中频双靶反应溅射制备二氧化硅膜与氧化铟锡膜在线联镀装置并投入生产.
2002年豪威公司在国内首次引进PEM控制系统,自行安装调试,成功的应用于多层光学膜的研发工作中.;;;二、气体放电某些特性
在一般的溅射装置中，在真空室内辉光放电形成并加速正离子，应熟悉气体放的某些电特性
1、辉光放电巴刑曲线--绝缘间隙的选取
放电气体压力P与电极之间距离d的乘积p.d对辉光放电压U的影响，相对应的曲线称巴刑曲线，该曲线所展示的规律称巴刑定
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磁控溅射镀膜方案.doc
钛镍金磁控溅射镀膜方案
实验目的
1、详细掌握磁控溅射制备钛镍金薄膜的实验程序。
2、掌握实验数据处理和分析方法，并对实验数据处理和分析。
3、通过调整实验数据以及数据分析来确定磁控溅射镀膜厚度。
4、通过实验得出镀1微米钛、1微米镍、0.5微米金的薄膜参数。
实验原理
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶外表，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E〔电场〕×B〔磁场〕所指的
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《磁控溅射镀膜技术1》.ppt
1、溅射镀膜技术是真空镀膜技术中应用最广的正在不断发展的技术之一 2、发展概况（1） 1842年Grove发现阴极溅射现象 1877年将二极溅射技术用于镀制反射镜。 二十世纪三十年代采用二极溅射技术镀制金膜作为导电底层 以后出现射频溅射、三极溅射和磁控溅射。 2、发展概况（2） 1936年和1940年Penning相继发明圆柱和圆筒磁控溅射阴极。-- Penning放电、 Penning规、Penning离子源相继出现 1963年美国贝尔实验室采用10米的连续溅射镀膜装置镀制集成电路的鉭膜，首次实现溅射镀膜产业化。 1970年圆柱磁控溅射阴极获得工业应用 2、发展概况（3） 1980年前
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磁控溅射镀膜方案.doc
钛镍金磁控溅射镀膜方案
实验目的
1、详细掌握磁控溅射制备钛镍金薄膜的实验程序。
2、掌握实验数据处理和分析方法，并对实验数据处理和分析。
3、通过调整实验数据以及数据分析来确定磁控溅射镀膜厚度。
4、通过实验得出镀1微米钛、1微米镍、0.5微米金的薄膜参数。
实验原理
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会
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《磁控溅射镀膜》课件.ppt
磁控溅射镀膜技术概述;课程目标;磁控溅射镀膜的定义;磁控溅射镀膜的发展历史;溅射镀膜的基本原理;磁控溅射与传统溅射的区别;磁控溅射的优势;磁控溅射设备结构;磁控溅射靶材类型;工作气体的选择;磁场的作用原理;等离子体的形成过程;溅射产额的影响因素;直流磁控溅射;射频磁控溅射;脉冲磁控溅射;反应性磁控溅射;共溅射技术;磁控溅射的工艺参数;溅射功率的影响;工作气压的作用;基底温度的控制;靶-基底距离的优化;沉积速率的调节;薄膜厚度的控制方法;薄膜均匀性的提高;薄膜附着力的增强技术;应力控制与调节;磁控溅射制备金属薄膜;磁控溅射制备氧化物薄膜;磁控溅射制备氮化物薄膜;磁控溅射制备碳基薄膜;多层膜的制备
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磁控溅射镀膜机.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112981339 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 201911276412.7
(22)申请日 2019.12.12
(71)申请人 湘潭宏大真空技术股份有限公司
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一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213476090 U
(45)授权公告日 2021.06.18
(21)申请号 202022138272.1
(22)申请日 2020.09.25
(73)专利权人 湖南玉丰真空科学技术有限公司
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一种磁控溅射镀膜设备的铆榫连接式玻璃装夹治具.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213113480 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202022037368.9
(22)申请日 2020.09.16
(73)专利权人 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司
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磁控溅射和离子束集成式镀膜设备.pdf
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213142170 U
(45)授权公告日 2021.05.07
(21)申请号 202020947870.0
(22)申请日 2020.05.29
(73)专利权人 星弧涂层新材料科技(苏州)股份
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2024-2030年中国磁控溅射镀膜设备行业现状动态与应用趋势预测研究报告.docx
2024-2030年中国磁控溅射镀膜设备行业现状动态与应用趋势预测研究报告
TOC\o1-3\h\z\u摘要 2
第一章磁控溅射镀膜设备行业概述 2
一、磁控溅射镀膜技术简介 2
二、设备基本构成与工作原理 3
三、行业在国民经济中的地位 4
第二章中国磁控溅射镀膜设备市场现状 4
一、市场规模与增长情况 4
二、主要生产企业及竞争格局 5
三、市场需求分析 6
第三章磁控溅射镀膜技术发展动态 6
一、技术研发进展 6
二、新材料应用与创新 7
三、节能环保技术趋势 8
第四章
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2024-2030年中国磁控溅射镀膜设备行业运行形势与应用趋势预测报告.docx
2024-2030年中国磁控溅射镀膜设备行业运行形势与应用趋势预测报告
TOC\o1-3\h\z\u摘要 2
第一章磁控溅射镀膜设备市场概述 2
一、市场定义与主要产品 2
二、行业发展背景及意义 3
三、国内外市场现状对比 3
第二章中国磁控溅射镀膜设备行业运行态势 4
一、近年行业运行概况 4
二、供需状况及变化分析 4
三、主要厂商竞争状况及策略 5
第三章行业发展的驱动与制约因素 5
一、市场需求及增长动力 5
二、技术革新对行业的影响 6
三、相关政策法规及标准 7
四