高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法 编制说明.docx

《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》征求意见稿编制说明

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《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》

征求意见稿编制说明

一、工作简况

1.1任务来源

国家标准《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》来源于2024年7月29日国标委发（2024）32号“国家标准化管理委员会关于下达2024年第五批推荐性国家标准计划及相关标准外文版计划的通知”，属于国家标准制定，计划号为T-491，归口单位为全国光电测量标准化技术委员会（SAC/TC487）与全国微机电技术标准化技术委员会（SAC/TC336），项目周期为18个月。

关于项目名称变更的说明：本项目立项时，只考虑了硅基高深宽比结构具有的技术特征及其相应的近红外显微干涉形态参数测量验证方法，但高深宽比微结构器件的材料透射光谱不止限于近红外波段，根据专家意见，取消了测量方法中近红外工作波段的限制，不止限于近红外显微干涉；同时，显微干涉方法是获取结构三维形貌与形态参数的特征方法，因此，名称中保留了显微干涉的特征描述。为了扩大光学显微干涉无损测量方法的适用范围，申请将项目名称《高深宽比微结构形态参数近红外显微干涉测量方法》调整为《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》。英文名称由《Near-infraredmicroscopicinterferometrymethodformorphologicalparametersofhighaspectratiomicrostructures》调整为《Microscopicinterferometrymeasurementmethodoftopographicparametersforhigh-aspect-ratiomicrostructures》。标准起草组于2025年1月2日，通过SAC/TC487秘书处向中国科学院科技基础能力局提交“关于调整《高深宽比微结构形态参数近红外显微干涉测量方法》项目名称的申请”，详见附件一。2025年3月15日获得中国科学院科技基础能力局批准文件，详见附件二。国标委系统已完成项目名称调整。

关于归口管理单位调整的说明：本项目测量方法的对象高深宽比微结构，是微机电传感器件的通用结构型式之一，测量方法又属于典型的光电测量技术领域，解决光电测量技术与微机电技术两种技术领域的技术交叉问题。经全国光电测量标准化技术委员会（TC487）与全国微机电技术标准化技术委员会

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（TC336）协商，双方同意项目号T-491的《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》国家标准，由全国光电测量标准化技术委员会（TC487）与全国微机电技术标准化技术委员会（TC336）双归口管理，全国光电测量标准化技术委员会（TC487）为第一归口单位。2025年3月24日双方标委会联合归口管理文件，详见附件三。

1.2主要参加单位和工作组成员及其所做的工作

2024年7月，《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》国家标准的任务下达后，在全国光电测量标准化技术委员会组织下，标准主起草单位南京理工大学联合上海市计量测试技术研究院、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司、中国科学院微电子研究所、中国计量科学研究院、中国科学院空天信息创新研究院、齐之明光电智能科技（苏州）有限公司、南京智群光电技术有限公司、苏州热工研究院有限公司、浙江大学苏州工业技术研究院和无锡华润上华科技有限公司等单位，组织了本标准的起草工作。起草单位及工作分配详见表1。起草人员及工作分配详见表2。

表1起草单位及承担工作

序号

起草单位

承担工作

1

南京理工大学

主要起草，承担了本标准的主要起草任务

2

上海市计量测试技术研

究院

协助起草，负责标准内容组织、审核

3

中国电子科技集团公司第十三研究所

协助起草，负责标准内容组织、审核，从技术角度对标准草案进行完善

4

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

协助起草，从技术角度对标准草案进行完善

5

苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司

协助起草，从技术角度对标准草案进行完善

6

中国科学院微电子研究所

标准工作指导

7

中国计量科学研究院

标准工作指导

8

中国科学院空天信息创新研究院

协助起草，从技术角度对标准草案进行完善

9

齐之明光电智能科技（苏州）有限公司

协助起草，负责标准内容组织

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