《GB_T 1558 - 2023硅中代位碳含量的红外吸收测试方法》最新解读.pptx
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《GB/T1558-2023硅中代位碳含量的红外吸收测试方
法》最新解读
一、新版标准为何重要——半导体产业的基石之变
(一)半导体行业蓬勃发展下的标准需求
随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的崛起,半导体产业迎来了前所未有的发展机遇。这些技术对硅材料的质量和性能提出了更为严苛的要求。硅作为半导体产业的核心材料,其内部杂质含量,尤其是代位碳含量,对半导体器件的性能有着关键影响。在高性能芯片制造中,硅中代位碳含量的细微变化,可能导致芯片的电子迁移率、击穿电压等关键参数出现波动,进而影响芯片的整体性能和可靠性。旧版标准在面对如今复杂且高精度要求的半导体生产工艺
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