基于WinCC的MOCVD监控系统的设计与实现.pdf

中文核心期刊《微计算机信息》(测控自动化)2007年第23卷第3-期

数采与监测1

文章编号1

:1008-0570(2007)03--0084-02

基于WinCC的MOCVD监控系统的设计与实现

西安电子科技大学过润秋黄军荣

()

摘要本文针对所研制的设备对其系统控制原理进行了分析介绍了监控界面的设计与实现并利用和

:MOCVD,,WinCC,C

全局脚本解决了多变量传输导致的内存消耗大通讯速度慢画面更新延迟等现象实现了批量修改和以日志方

VBSPLC、、,

式保存数据的功能。

关键词脚本

:WinCC;MOCVD;C;VBS

中图分类号文献标识码

:TP273:B

Abstract:

技Keywords:WinCC;MOCVD;CScript;VBScript

为公司的系列作为核心控制器用于控

术1引言SIEMENSS7-300PLC,

制晶体的生长上位机采用研华生产的工控机

。6200。

,又名

MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition)

控制系统构成如图所示。

创MOCVD1

、

OMCVD(OrganometallicChemicalMOVPEVaporDeposition)

温度控制器上位机

,即金属有机化合物化学气相

新(MetalOrganicvaporphaseepitaxy)

沉积是一项制备高质量的半导体薄片晶体的新技术

,。MOCVD

已经成为当前世界各国都在大力发展的一种高新半导体材料

PLC

制备技术具有很高的应用价值及广阔的应用前景它是当今

,,

世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段,如激

光器探测器发光二极管高效太阳能电池光电阴极等是光

、、、、,

电子等产业不可缺少的设备目前作为材料生长用反应室气体处理系统