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紫外负型光刻胶及配套试剂.docx

发布:2025-04-14约3.17千字共8页下载文档
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紫外负型光刻胶及配套试剂

试剂所通过担当国家重点科技攻关任务而研制开发出来的紫外光刻胶及配套试剂主要用于超大规模集成电路和分立器件微细加工过程。成果及产品的水平在国内居领先地位,其中的紫外负型光刻胶获得了国家科委颁发的国家级产品证书。现已形成年产

紫外负型光刻胶20吨、紫外正型光刻胶5吨、配套试剂100吨的规模,并正在进展更大规模的建设。

一.BN系列紫外负型光刻胶

㈠BN-302系列紫外负型光刻胶

BN302-60负型光刻胶主要用于中、小规模集成电路的光刻。该光刻胶感光速度快,工艺宽容大,对二氧化硅、多晶硅和金属层具有较好的粘附性和抗湿法腐蚀力量。

⒈特性:

⑴高区分

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