JJF《-硅片轮廓测量仪005》.pdf
中华人民共和国国家计量技术规范
JJFXXXX-XXXX
硅片轮廓测量仪校准规范
CalibrationSpecificationfor
siliconwaferprofilometer
（征求意见稿）
XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施
国家市场监督管理总局发布
JJFXXXX-XXXX
硅片轮廓仪校准规范JJFXXXX-XXXX
CalibrationSpecificationforsilicon
waferprofilometer
归口单位：全国几何量长度计量技术委员会
主要起草单位：中国计量科学研究院
重庆市计量质量检测研究院
参加起草单位：南京市计量监督检测院
武汉精测电子集团股份有限公司
广州计量检测技术研究院
深圳市中图仪器股份有限公司
本规范委托全国几何量长度计量技术委员会负责解释
JJFXXXX-XXXX
本规范主要起草人：
参加起草人：
JJFXXXX-XXXX
目录
引言II
1范围1
2引用文件1
3术语和计量单位1
3.1正表面frontside1
3.2中位面mediansurface1
3.3中心厚度centerthickness1
3.4总厚度变化量totalthicknessvariation（TTV）1
3.5总指示读数totalindicationreading（TIR）1
3.6翘曲度warp1
3.7弯曲度bow1
4概述2
5计量特性2
5.1中心点厚度示值误差2
5.2总厚度变化量示值误差3
5.3平整度测量重复性3
5.4弯曲度测量重复性3
5.5翘曲度测量重复性3
6校准条件3
6.1环境条件3
6.2校准项目及校准用的标准器及设备3
7校准项目和校准方法3
7.1中心点厚度示值误差3
7.2总厚度变化量示值误差4
7.3平整度测量重复性4
7.4弯曲度测量重复性4
7.5翘曲度测量重复性5
8校准结果表达5
9复校时间间隔5
附录A校准证书内容及内页格式6
附录B硅片轮廓测量仪中心点厚度示值误差校准结果的不确定度评定示例7
附录C硅片轮廓标准测量装置的不确定度评定10