半导体行业SEMICONChina2025动态跟踪报告：新凯来携四类产品亮相，半导体设备国产化再上新台阶.docx
正文目录
TOC\o1-1\h\z\u一、新凯来携三十余款设备惊艳亮相SEMICONChina2025 5
二、扩散设备：推出EPI和RTP共六款产品 5
三、刻蚀设备：推出CCP、ICP、自由基干法刻蚀 6
四、薄膜沉积设备：推出PVD、CVD、ALD系列产品 7
五、量检测设备：推出多种类系列量检测设备族 8
六、投资建议 11
七、风险提示 11
图表目录
图表1 新凯来公司 5
图表2 新凯来EPI设备应用场景 5
图表3 新凯来RTP设备应用场景 6
图表4 新凯来EPI设备应用场景 7
图表5 新凯来PVD设备应用场景 7
图表6 新凯来ALD设备应用场景 8
图表7 新凯来CVD设备应用场景 8
图表8 新凯来晶圆缺陷检测设备产品特点及应用场景 9
图表9 新凯来套刻量测设备产品特点及应用场景 9
图表10 新凯来X射线量测设备产品特点及应用场景 10
图表11 新凯来电性能检测设备产品特点及应用场景 10
图表12 新凯来空白掩膜缺陷检测和原子力显微镜检测设备产品特点及应用场景 11
资料来源：《一、新凯来携三十余款设备惊艳亮相SEMICONChina2025
资料来源：《
新凯来总部位于深圳，在上海、北京、西安、武汉、成都、杭州等国内城市以及海外设有研发中心，建立了基础材料工艺-零部件-装备的端到端研发体系。公司致力于先进半导体工艺装备、量检测装备的开发与制造，打造可靠的产业基础和平台，成为世界一流的半导体装备提供商和客户最信赖的伙伴。
2025年3月26日-28日，SEMICONChina2025展会在上海举办，新凯来携30余款产品亮相，产品类别涵盖扩散、刻蚀、薄膜沉积、检量测等，初次展示了其多品类、全系列的半导体设备产品矩阵。
图表1新凯来公司
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
资料来源：《二、扩散设备：推出EPI和RTP共六款产品
资料来源：《
EPI，代号峨眉山，是12英寸单片减压外延生长设备，采用创新架构设计，全面覆盖逻辑及存储外延等应用场景，支持向未来先进节点演进。产品特点：1）多分区温控和流控系统设计，实现热流场精准调控，有效提高外延膜层均匀性；2）创新小腔室架构设计，搭配智能调度算法，实现资源高效利用，大幅降低运营成本；3）核心部件自主可控，与系统设计高度匹
配，达到最佳性能组合，有效提升设备稳定性。
峨眉山3号沟道外延，超晶格叠层外延，埋层外延锗硅，纯硅，纯锗等图表2 新凯来EPI
峨眉山3号
沟道外延，超晶格叠层外延，埋层外
延
锗硅，纯硅，纯锗等
产品系列
适用工艺
适用材料
图示
峨眉山1号
峨眉山2号
源漏极锗硅外延
源漏极磷硅外延
硼掺杂锗硅,硼掺杂锗硅镓等
磷硅，磷硅砷等
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
RTP，代号三清山，是快速热处理设备。三清山1号可支持超薄致密硅氧生长。三清山2号是12英寸单片超快尖峰退火设备，覆盖尖峰退火/超快尖峰退火等逻辑及存储应用领域，具备大行程磁悬浮升降运动控制及背照式退火能力，支持先进工
艺持续演进。产品特点：1）大行程磁悬浮升降技术及高吸收选择性反射板设计，有效降低尖峰退火工艺热预算；2）非对称式多区边缘补偿技术及智能温控算法，实现高均匀性退火工艺；3）器件级同步技术及毫秒级控制环路技术，提升片间重复性；4）智能开环温控算法及自适应热预算匹配设计，大幅提升工艺开发效率。三清山3号是12英寸单片均温/尖峰退火设备，覆盖均温退火/尖峰退火等逻辑及存储应用场景，具备低热预算调控及超低温退火能力，支持先进工艺持续演进。产品热点：1）高吸收选择性反射板设计及近表面氦冷流场控制技术，实现低热预算灵活调控；2）辐射式超低温测温技术及选择性透射石英窗技术，实现超低温退火工艺；3）器件级同比技术及毫秒级控制环路技术，提升片间重复性。
图表3新凯来RTP设备应用场景
产品系列 适用工艺 图示
三清山
三清山2号
轻掺杂源漏退火，源漏退火，高K材料盖帽层退火等
三清山3号
阱退火，深N阱退火，源漏退火，钴硅化物退火，镍硅化物退火等
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
新凯来装备介绍》，平安证券研究所
资料来源：《三、刻蚀设备：推出CCP、ICP、自由基干法刻蚀
资料来源：《
刻蚀设备，代号武夷山，新凯来推出1号、3号、5号三款产品。
武夷山1号是精细介质刻蚀设备，属于CCP干法刻蚀，腔室采用全对称架