一种用于光刻机的低应力窄带紫外镜头.pdf

无掩模版紫外光刻机.docx T/QGCMLXXXX—XXXX 1 无掩模版紫外光刻机 1范围本文件规定了无掩模版紫外光刻机的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于无掩模版紫外光刻机的生产和检验。 2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T191包装储运图示标志 GB4793.1测量、控制和实验室用电气设备的安全要求第1部分：通用要求GB/T13384机电产品包装通用技术条件 GB/T2680建筑玻璃可见光透射比

2025-04-23 约3.02千字 5页立即下载

无掩模版紫外光刻机.pdf T/QGCMLXXXX—XXXX 无掩模版紫外光刻机 1范围本文件规定了无掩模版紫外光刻机的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于无掩模版紫外光刻机的生产和检验。 2规范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T191包装储运图示标志 GB4793.1测量、控制和实验室用电气设备的安全要求第1部分：通用要求 GB/T13384机电产品包装通用技术条件 GB/T2680建筑玻璃可见光透

2025-04-21 约3.82千字 3页立即下载

无掩模版紫外光刻机.pdf ICS点击此处添加ICS号 CCS点击此处添加CCS号团体标准 T/QGCMLXXXX—XXXX 无掩模版紫外光刻机 MasklesstemplateUVlithographymachine XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施全国城市工业品贸易中心联合会发布 T/QGCMLXXXX—XXXX 目次前言II 1范围1 2规范性引用文件1 3术语和定义1 4技术要求1 5试验方法2 6检验规则2 7标志、包装、运输和贮存3 I T/QGCMLXXXX—XXXX 前言本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。请注意本

2025-04-18 约4.93千字 6页立即下载

一种用于调节狭缝式曝光带均匀性的装置和光刻机.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114815511 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202110130278.0 (22)申请日 2021.01.29 (71)申请人中国科学院微电子研究所地址 10

2023-05-12 约6.83千字 8页立即下载

URE-2000系列紫外深度光刻机.doc URE-2000系列紫外深度光刻机 中国科学院光电技术研究所，是中国科学院在西南地区规模最大的研究所,2001年整体进入中国科学院知识创新工程。微光学与微电子光学装备研制是中国科学院光电技术研究所的重点学科之一，不仅拥有一支总体设计水平高，光、机、电配套，积累了丰富经验的科研队伍，还拥有一支实力雄厚的试制加工、工艺和测试力量，为研发、生产和拓展微电子装备技术领域奠定了坚实的基础。该所在充分发挥多年从事微细加工光学专用设备产品的攻关与研制的技术优势的同时，坚持走自主创新之路，加强核心技术、共性技术和关键部件的自主创新，重视科技成果的应用和转化，着力把自主创新作为培育新的经济增长点和提升核心竟争

2025-04-05 约1.95千字 4页立即下载

《无掩模版紫外光刻机》编制说明.docx 《无掩模版紫外光刻机》（征求意见稿）编制说明一、工作简况 1、任务来源根据2020年全国标准化工作要点，大力推动实施标准化战略，持续深化标准化工作改革，加强标准体系建设，提升引领高质量发展的能力。依据《中华人民标准化法》，以及《团体标准管理规定（试行）》相关规定，全国城市工业品贸易中心联合会决定立项并联合相关单位共同制定《无掩模版紫外光刻机》团体标准。于2025年03月14日，全国城市工业品贸易中心联合会发布《无掩模版紫外光刻机》团体标准立项通知，正式立项。 2、起草工作组信息本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。本文件起草单位：托托科技（苏州）有限公司。本文件主要起草人：

2025-04-20 约1.23千字 5页立即下载

TQGCML-无掩模版紫外光刻机.pdf ICS点击此处添加ICS号 CCS点击此处添加CCS号团体标准 T/QGCMLXXXX—XXXX 无掩模版紫外光刻机 MasklesstemplateUVlithographymachine XXXX-XX-XX发布XXXX-XX-XX实施全国城市工业品贸易中心联合会发布 T/QGCMLXXXX—XXXX 目次前言II 1范围1 2规范性引用文件1 3术语和定义1 4技术要求1 5试验方法2 6检验规则2 7标志、包装、运输和贮存3 I T/QGCMLXXXX—XXXX 前言本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。请注意本

2025-04-23 约6.54千字 10页立即下载

深紫外光刻机行业发展预测分析.docx 深紫外光刻机行业发展预测分析第PAGE1页 TOC\o1-3\h\z\u深紫外光刻机行业发展预测分析 2 一、引言 2 介绍深紫外光刻机行业的背景 2 概述研究目的和意义 3 简述研究方法和范围 4 二、深紫外光刻机行业现状分析 6 国内外深紫外光刻机行业的发展概况 6 主要生产商及市场份额分布 7 市场需求现状及趋势分析 8 行业技术进展及挑战 10 三、深紫外光刻机技术发展分析 11 光刻技术的基本原理及发展历程 11 深紫外光刻技术的特点与挑战 13 最新技术进展及趋势预测 14 关键技术的突破和创新能力分析 15 四、市场预测分析 17 市场规模及增长趋势预测 17 市场份额的分配和

2025-04-11 约2.65万字 44页立即下载

深紫外光刻机项目创业计划书.docx 深紫外光刻机项目创业计划书第PAGE1页 TOC\o1-3\h\z\u深紫外光刻机项目创业计划书 3 一、项目概述 3 1.1项目背景 3 1.2项目愿景 4 1.3项目目标 5 二、市场分析 7 2.1市场需求分析 7 2.2行业竞争格局 8 2.3目标市场定位 10 2.4市场规模预测 11 三、产品与技术 13 3.1产品研发进度 13 3.2产品技术特点 14 3.3核心技术竞争力 16 3.4产品性能及优势 17 四、团队与管理 19 4.1创始团队介绍 19 4.2团队架构及分工 20 4.3管理体系与制度 22 4.4人才引进与培养策略 23 五、营销与推广策略 25 5.1营

2025-05-28 约3.35万字 58页立即下载

一种光刻机的可调节吸盘.pdf (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号CN220526183U (45)授权公告日2024.02.23 (21)申请号202322125586.1 (22)申请日2023.08.08 (73)专利权人郑州雷神光电技术研究院有限公

2024-02-22 约6.4千字 9页立即下载

一种光刻机的成像装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213122597 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021494552.X (22)申请日 2020.07.24 (73)专利权人湖南印之明智能制造有限公司

2023-02-28 约8.69千字 11页立即下载

应用传统紫外光刻机进行紫外压印.docx EPE电子工业专用设备Equipment for Electronic ProductsManufacturing·微纳加工技术·应用传统紫外光刻机进行紫外压印董晓文 1,2, 司卫华 1,2, 顾文琪1( 1.中国科学院电工研究所, 北京100080;2.中国科学院研究生院, 北京100049)摘要: 基于紫外光固化的紫外纳米压印技术可在常温常压条件下实现纳米结构批量复制,具有高分辨率、高效率和低成本的优点。通过对紫外纳米压印原理和工艺的分析,制备了石英玻璃模板,实现了在商用紫外固化聚合物OG154上的紫外纳米压印,转移复制了具有100nm特征的5cm×5 cm 面积的纳米结构图形。同时

2017-08-24 约5.59千字 4页立即下载

TQGCML-无掩模版紫外光刻机编制说明.pdf 团体标准《无掩模版紫外光刻机》（征求意见稿）编制说明标准编制小组 2025年04月一、工作简况 1、任务来源根据2020年全国标准化工作要点，大力推动实施标准化战略，持续深化标准化工作改革，加强标准体系建设，提升引领高质量发展的能力。依据《中华人民标准化法》，以及《团体标准管理规定（试行）》相关规定，全国城市工业品贸易中心联合会决定立项并联合相关单位共同制定《无掩模版紫外光刻机》团体标准。于2025年03月14日，全国城市工业品贸易中心联合会发布《无掩模版紫外光刻机》团体标准立项通知，正式立项。 2、起草工作组信息本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口。本文

2025-04-20 约1.62千字 4页立即下载

深紫外光刻机行业调研及投资前景分析报告.docx 深紫外光刻机行业调研及投资前景分析报告第PAGE1页 TOC\o1-3\h\z\u深紫外光刻机行业调研及投资前景分析报告 2 一、引言 2 报告概述 2 深紫外光刻机行业的重要性 3 报告目的与研究方法 5 二、深紫外光刻机行业现状分析 6 行业发展历程 6 市场规模与增长趋势 8 主要生产企业及竞争格局 9 技术进展与创新动态 10 行业主要问题及挑战 12 三、深紫外光刻机市场应用分析 13 主要应用领域 14 市场需求分析 15 客户偏好与消费趋势 16 区域市场需求差异 18 四、深紫外光刻机行业技术进展与趋势预测 19 技术发展现状 19 技术趋势与前沿动态 21 技术壁垒与突破方

2025-04-13 约3.08万字 52页立即下载

深紫外光刻机市场需求分析报告.docx 深紫外光刻机市场需求分析报告第PAGE1页 TOC\o1-3\h\z\u深紫外光刻机市场需求分析报告 2 一、引言 2 报告的背景和目的 2 深紫外光刻机技术的简介 3 二、市场概述 4 全球半导体市场的概况 4 半导体制造设备市场的趋势 6 深紫外光刻机在半导体制造中的地位 7 三、市场需求分析 8 行业发展趋势及增长预测 8 深紫外光刻机的需求现状及趋势分析 9 主要应用领域的需求分布 11 四、市场竞争格局分析 12 全球深紫外光刻机市场竞争状况 12 主要竞争对手分析 13 市场份额及竞争格局的变化趋势 15 五、技术发展分析 16 深紫外光刻技术的最新进展 16 技术发展的挑战与机

2025-05-12 约2.51万字 41页立即下载