化学气相沉积反应腔.pdf

一种化学气相沉积用的非金属反应腔.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112831771 A (43)申请公布日 2021.05.25 (21)申请号 202011617168.9 (22)申请日 2020.12.30 (71)申请人上海埃原半导体设备有限公司

2023-06-03 约2.91万字 38页立即下载

传统的物理气相沉积过程中不发生化学反应.PPT * 金属基复合材料江苏大学材料科学与工程学院 * 第4章金属基复合材料的制造课程回顾 4.1 概述 4.2 固态法 4.3 液态法 4.4 原位合成法 4.5 表面复合技术 * 思考题 1、制造金属基复合材料需解决的关键技术问题有哪些，如何加以解决？ 2、金属基复合材料液态制造技术有哪些？试举一种说明其工作流程及存在的问题。 * 第4章金属基复合材料的制造 3.1 概述 3.2 固态法 3.3 液态法 3.4 原位合成法 3.5 表面复合技术 * 4.4 原位合成技术原位自生成法是指增强材料在复合材料制造过程中在基体中自己生成和生长的方法。增强材料以共晶的形式从基体中凝

2018-02-05 约4.53千字 39页立即下载

化学气相沉积和物理气相沉积中的分形.pptx 化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）中薄膜的分形;目录;气相沉积的应用;化学气相沉积简介;物理气相沉积简介;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;化学气相沉积石墨烯中的分形;物理气相沉积中的分形;

2017-04-20 约小于1千字 12页立即下载

热激发化学气相沉积.pdf

2020-09-28 约小于1千字 1页立即下载

2023-12-20 约小于1千字 34页立即下载

化学气相沉积cvd.ppt 第4章 化学气相沉积 4.1 化学气相沉积合成方法发展 化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。 化学气相沉积的英文词原意是化学蒸汽沉积（Chemical Vapor Deposition,CVD），因为很多反应物质在通常条件下是液态或固态，经过汽化成蒸汽再参与反应的。 化学气相沉积的古老原始形态可以追朔到古人类在取暖或烧烤时熏在岩洞壁或岩石上的黑色碳层。作为现代CVD技术发展的开始阶段在20世纪50年代主要着重于刀具涂层的应用。从20世纪60～70年代以来由于半导体和

2015-09-11 约1.7万字 110页立即下载

化学气相沉积技术.ppt 化学气相沉积技术目录 化学气相沉积技术的基本概念 Ⅰ.化学气相沉积技术的定义 Ⅱ.化学气相沉积技术的分类 Ⅲ.化学气相沉积技术的发展历程 Ⅳ.化学气相沉积技术的基本原理 化学气相沉积技术的基本理论 Ⅰ.CVD技术 Ⅱ.CVD制备材料的生长机制 Ⅲ.化学气相沉积的反应过程 CVD技术在实验室的应用 化学气相沉积技术的发展历程 CVD是建立在化学反应基础上的，要制备特定性能材料首先要选定一个合理的沉积反应。用于CVD技术的通常有如下所述六种反应类型。 Ⅲ.化学气相沉积的反应过程 化学反应可在衬底表面或衬底表面以外的空间进行。

2015-09-13 约字 28页立即下载

2019-05-09 约2.36万字 49页立即下载

化学气相沉积 (2).ppt 化学气相沉积——其它CVD方法 MOCVD的主要缺点： ① 许多金属有机化合物有毒、易燃，给有机金属化合物的制备、贮存、运输和使用带来困难，必须采取严格的防护措施； ② 由于反应温度低，有些金属有机化合物在气相中就发生反应，生成固态微粒再沉积在衬底表面，形成薄膜中的杂质颗粒，破坏了膜的完整性。 化学气相沉积——其它CVD方法 (2) 光CVD 是利用光能使气体分解，增加反应气体的化学活性，促进气体之间化学反应的化学气相沉积技术。 (3) 电子回旋共振（ECR）等离子体沉积在反应室内导入微波能和磁场，使得电子的回旋运动和微波发生共振现象。电子和气体碰

2019-05-09 约1.25万字 98页立即下载

化学气相沉积(1).ppt * P285 在薄膜制备上该工艺已逐渐被MOCVD取代。 * * 首先，热力学能判断反应是否能够进行；其次，热力学计算可以得到分压信息，和可逆反应的方向问题；无法给出反应速率和薄膜沉积速率；有些反应是可以进行的，但由于速率问题并不一定实用，另外体系一般是开放体系。一般的，CVD是经验科学，但是热力学可以作为准则。但有的中间反应却要求反应速度尽可能快 * 标准图上找不到反应(1)的数据 * 实际情况是只有若干个反应是达到平衡，而其他反应没有达到平衡 * * 1500K时，HCl刻蚀Si * 1400K，Si/Cl比较小，表示固相中的Si比较多，沉积率比较高，再升高温度，Si/Cl变化不大，

2019-01-23 约2.05万字 164页立即下载

第4章-化学气相沉积.ppt 化学气相沉积 三、化学气相沉积法适用范围 2、模具方面的应用 4.2 化学气相沉积原理 CVD的TiN涂层作为模具的表面保护层具有下列性能，从而显著地降低了所产生的的磨损：与基体材料的结合力好，因此在成形时能转移所产生的高摩擦-剪切力。有足够的弹性，模具发生少的弹性变形时不会出现裂纹和剥落现象。减少了成形材料的粘着，因此降低了“咬舍”的危险。好的润滑性能，它能降低模具的磨损并能改善成形工件的表面质量。高的硬度，它能降低磨粒磨损。三、化学气相沉积法适用范围 3、耐磨涂层机械零件方面的应用 4.2 化学气相沉积原理 TiC、Si3N4涂层：耐磨性好、摩擦因数低、与基体

2017-05-25 约8.47千字 54页立即下载

化学气相沉积.ppt 化学气相沉积——其它CVD方法 MOCVD的主要缺点： ① 许多金属有机化合物有毒、易燃，给有机金属化合物的制备、贮存、运输和使用带来困难，必须采取严格的防护措施； ② 由于反应温度低，有些金属有机化合物在气相中就发生反应，生成固态微粒再沉积在衬底表面，形成薄膜中的杂质颗粒，破坏了膜的完整性。 化学气相沉积——其它CVD方法 (2) 光CVD 是利用光能使气体分解，增加反应气体的化学活性，促进气体之间化学反应的化学气相沉积技术。 (3) 电子回旋共振（ECR）等离子体沉积在反应室内导入微波能和磁场，使得电子的回旋运动和微波发生共振现象。电子和气体碰

2017-06-20 约字 98页立即下载

2017-06-05 约4.1千字 44页立即下载

化学气相沉积技术.pptx 化学气相沉积技术;目录;CVD(化学气相沉积法):化学气相沉积是在一定真空度和温度下，将几个含有组成沉积膜层材料元素单质或化合物反应源气体，经过化学反应而生成固态物质并沉积在基材上成膜方法。;CVD法主要特点;CVD法制备薄膜过程 ;常见CVD反应方式;CVD反应物质源;CVD制备薄膜时基材温度区域;CVD装置组成;CVD装置选择;影响CVD沉积层质量原因;CVD种类;CVD应用;CVD发展;Theend

2025-05-07 约小于1千字 15页立即下载

4化学气相沉积.ppt 化学气相沉积乃是通过化学反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。常用三种CVD技术优缺点 CVD是一种材料表面改性技术。它利用气相间的反应，在不改变基体材料的成分和不削弱的基体材料的强度条件下，赋予材料表面一些特殊的性能。CVD是建立在化学反应基础上的，要制备特定性能材料首先要选定一个合理的沉积反应。用于CVD技术的通常有如下所述五种反应类型。 CVD技术的热动力学原理 化学气相沉积的五个主要的机构 (a)反应物已扩散通过界面边界层；(b)反应物吸附在基片的表面；(c)化学沉积反应发生

2017-05-23 约5.95千字 52页立即下载