用于蚀刻用于半导体应用的材料层的方法.pdf

蚀刻半导体结构的方法和设备.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113366603 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202080012369.8 (74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公

2023-06-16 约2.1万字 17页立即下载

半导体蚀刻技术.doc 简介? 在积体电路制造过程中，常需要在晶圆上定义出极细微尺寸的图案（图案），这些图案主要的形成方式，乃是藉由蚀刻（蚀刻）技术，将微影（微光刻）后所产生的光阻图案忠实地转印至光阻下的材质上，以形成积体电路的复杂架构。因此蚀刻技术在半导体制造过程中占有极重要的地位。? 广义而言，所谓的蚀刻技术，包含了将材质整面均匀移除及图案选择性部份去除的技术。而其中大略可分为湿式蚀刻（湿蚀刻）与干式蚀刻（干式蚀刻）两种技术。? 早期半导体制程中所采用的蚀刻方式为湿式蚀刻，即利用特定的化学溶液将待蚀刻薄膜未被光阻覆盖的部分分解，并转成可溶于此溶液的化合物后加以排除，而达到蚀刻的目的。湿式蚀刻的进行主要是藉由溶液与

2025-04-12 约4.07万字 29页立即下载

使用湿法蚀刻和干法蚀刻制造半导体器件的方法以及半导体器件.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114792627 A (43)申请公布日 2022.07.26 (21)申请号 202210077968.9 (22)申请日 2022.01.24 (30)优先权数据

2023-05-12 约1.59万字 14页立即下载

用于先进半导体应用的低应力膜.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113366612 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202080012243.0 (74)专利代理机构上海胜康律师事务所 31263

2023-06-16 约2.81万字 27页立即下载

室清洁和半导体蚀刻气体.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112981369 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110175233.5 C23G 5/00 (2006.01)

2023-06-08 约1.41万字 10页立即下载

一种用于水处理的光催化半导体材料的制备方法、光催化方法及设备.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113351195 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110791072.2 (22)申请日 2021.07.13 (71)申请人北京

2023-06-20 约1.24万字 18页立即下载

2023-06-20 约1.74万字 19页立即下载

半导体材料分析技术与应用.pdf 半導體材料分析技術與應用鮑忠興 Jong-Shing Bow Feature of a MOS Matel silicide Poly(n)

2019-09-26 约7.83万字 123页立即下载

半导体材料的研究与应用.pptx 半导体材料的研究与应用;目录;PART;应用领域;物理特性分析;化学性质简介;制备方法;PART;法拉第发现硫化银的电阻随温度变化情况，开启了半导体研究的大门。;晶体管的诞生;电子信息领域;未来发展趋势预测;PART;硅（Si）基半导体材料;锗的应用领域;;石墨烯的结构与性质;PART;PN结是由P型半导体和N型半导体形成的具有特定电学特性的结构。;晶体管由两个PN结组成，通常分为NPN型和PNP型两种。;集成电路设计基础知识;先进制造工艺流程概述;PART;集成电路;光伏发电系统;;航空航天;PART;半导体材料生产过程需要大量的能源，同时也会产生一些污染物，给环境带来压力。;加大研发投入;

2025-03-05 约小于1千字 33页立即下载

CdS半导体材料的性质和应用.doc PAGE PAGE1 摘要硫化镉（CdS）作为一种优良的发光基质材料，拥有奇特的电子能带结构和良好的光电性能，是最常用的宽禁带半导体之一。稀土Eu3+离子具备特有的光、电和磁等性能、强配位性及多配位点性等优势。掺杂Eu3+能改变CdS材料中载流子的类型,引起电子结构的变化，导致其光学性质的改变。本文拟采用化学气相沉积法在上制备Eu3+掺杂的CdS半导体材料。拟利用拉曼（Raman）光谱仪对设计的掺杂Eu3+的半导体CdS（CdS:Eu）材料表征掺杂结构和效果，拟利用光致发光（PL）光谱仪对CdS:Eu材料进行发光特性研究。通过控制温度，离子掺杂浓度，气流，衬底位置四个重

2024-10-06 约2.08万字 27页立即下载

半导体材料的发展及应用.pptx 半导体材料的发展及应用;让我们来看两组半导体的图片;;;;苹果笔记本;石油馆;激光笔;;半导体材料;半导体材料;半导体材料的发展历程;元素半导体（硅）;;化合物半导体;化合物半导体集成电路;化合物半导体;总的来说：硅（元素半导体）本身有许多难以再改善的电子特性已经无法再充分满足人们的需求，化合物半导体逐渐受到青睐，其中砷化镓凭借着高频率，高电子迁移率，低噪音，输出功率高，耗能少，效益高以及线性度良好，不易失真等优越的特性，脱颖而出，开发前景令人鼓舞。; 基于半导体发光二极管（LED）的半导体光源具有体积小，发热量低，耗电量小，寿命长，无污染，易开发成轻薄短小产品等优点，具有重大的经济技术价

2025-04-01 约1.55千字 34页立即下载

半导体材料的发展及应用.pptx 半导体材料的发展及应用;让我们来看两组半导体的图片;;;;苹果笔记本;石油馆;激光笔;;半导体材料;半导体材料;半导体材料的发展历程;元素半导体（硅）;;化合物半导体;化合物半导体集成电路;化合物半导体;总的来说：硅（元素半导体）本身有许多难以再改善的电子特性已经无法再充分满足人们的需求，化合物半导体逐渐受到青睐，其中砷化镓凭借着高频率，高电子迁移率，低噪音，输出功率高，耗能少，效益高以及线性度良好，不易失真等优越的特性，脱颖而出，开发前景令人鼓舞。; 基于半??体发光二极管（LED）的半导体光源具有体积小，发热量低，耗电量小，寿命长，无污染，易开发成轻薄短小产品等优点，具有重大的经济

2020-01-31 约小于1千字 33页立即下载

半导体材料的分类及应用.doc 半导体材料的分类及应用　能源、材料与信息被认为是当今正在兴起的新技术革命的三大支柱。材料方面, 电子材料的进展尤其引人注目。以大规模和超大规模集成电路为核心的电脑的问世极大地推动了现代科学技术各个方面的发展,一个又一个划时代意义的半导体生产新工艺、新材料和新仪器不断涌现, 并迅速变成生产力和生产工具, 极大地推动了集成电路工业的高速发展。半导体数字集成电路、模拟集成电路、存储器、专用集成电路和微处理器, 无论是在集成度和稳定可靠性的提高方面, 还是在生产成本不断降低方面都上了一个又一个新台阶,有力地促进了人类在生物工程、航空航天、工业、农业、商业、科技、教育、卫生等领域的全面发展, 也大大地

2017-03-30 约6.77千字 11页立即下载

归纳半导体材料的发展及应用.ppt 精选课件精选课件精选课件 半导体材料的发展及应用 ., * 让我们来看两组半导体的图片 ., * ., * 下面是具体形象的物品所应用到的半导体 ., * 苹果4代 ., 苹果笔记本 ., ., 石油馆 ., 激光笔 ., 半导体材料是半导体工业的基础，是信息技术和产业发展的“粮食”。 半导体材料应用已经成为衡量一个国家经济发展科技进步和国防实力的重要标志。 ., 半导体材料 什么是半导体材料？发展历程应用领域 1 2 3 ., 半导体材料 电阻率在10^-3~10^-9Ω.cm ,介于金属与绝缘体之间的材料。材料导体 半导体 绝缘体

2020-06-06 约1.75千字 33页立即下载

半导体材料的发展及应用.pptx 半导体材料的发展及应用下面是具体形象的物品所应用到的半导体 苹果4代石油馆激光笔 半导体材料是半导体工业的基础，是信息技术和产业发展的“粮食”。01半导体材料应用已经成为衡量一个国家经济发展科技进步和国防实力的重要标志。02 半导体材料发展历程应用领域什么是半导体材料？ 半导体材料电阻率在10^-3~10^-9Ω.cm,介于金属与绝缘体之间的材料。材料导体半导体绝缘体电阻率（欧姆）﹤10-310-3--109﹥109 半导体材料的发展历程01元素半导体02化合物半导体 特点：储量丰富，价格低廉，热性能和机械性能优良，易伸长成大尺寸高纯度的晶体。应用： 95%以上的半导体器件和99%

2025-05-27 约1.77千字 10页立即下载