Flyback Flyback 架构的 架构的EMI EMI 分析.pdf
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Flyback 构的EMI 分析
Flyback 构的EMI 分析
Conduction 部分
SANTAK RD 刘鹏/王可志
SANTAK RD 刘鹏/王可志
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一、目的
Flyback架构的EMI 效果通常是比较差的 (特别是在不
连续工作模式下), 以往常经验来看,充电板以及功率
板上的充电部分是整机EMI效果的重要决定因素之一。
因此在此专题里面将以Flyback架构为对象,分析其
Noise源,传播途径,改善方法。拟在不影响电气性能
的前提下,降低成本 提高UPS 的EMC性能。
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二、Noise 的产生机理及传播途径:
2.1 Flyback架构的高频等效模型
Flyback架构高频等效模型
Cds:MOSFET 的寄生等效电容, Cj:二极管的节电容Cj,
Cm:Mosfet D极对散热片杂散电容, Cd:输出二极管负极对散热片的杂散电容
Les:变压器副边对其他绕组的漏感, Lep :变压器原边对其他绕组的漏感
Ctx :变压器原边与副边之间的杂散电容,Ce :散热片对地的电容
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2.2 Flyback 架构中的nosie 源
Noise 源:大的di/dt和dv/dt 产生的地方,对
Flyback架构来说,会产生这些变化的主要有:
变压器TX1 ;
MOSFET Q1 ;
输出二极管D1;
芯片的RC振荡;
驱动信号线;
(注:以下皆以C3KS (220V )充电板为研究对象)
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2.3 Mosfet Q1 动作时产生的Nosie
此处发生振荡1
此处发生振荡2
Q1 上Vds 的波形
MOSFET 动作时产生的Noise :如上图所示,主要来自三个方面:
①Mosfet开通 关断时,具有很宽的频谱含量,开关频率的谐波本身
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