文档详情

一种激光直刻金属柱面光栅光刻机.pdf

发布：2023-06-04约1.46万字共13页下载文档

文本预览下载声明

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112799162 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 202110150974.8 (22)申请日 2021.02.02 (71)申请人廊坊

显示全部

相似文档

一种金属柱面光栅及其制造工艺.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112799161 A (43)申请公布日 2021.05.14 (21)申请号 202110139793.5 (22)申请日 2021.02.02 (71)申请人廊坊市莱格光电仪器有限公司
2023-06-03 约8.39千字 10页立即下载
一种光刻机的可调节吸盘.pdf (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号CN220526183U (45)授权公告日2024.02.23 (21)申请号202322125586.1 (22)申请日2023.08.08 (73)专利权人郑州雷神光电技术研究院有限公
2024-02-22 约6.4千字 9页立即下载
一种光刻机的成像装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213122597 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021494552.X (22)申请日 2020.07.24 (73)专利权人湖南印之明智能制造有限公司
2023-02-28 约8.69千字 11页立即下载
一种适应于光刻机晶圆的寻边机构.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112820670 A (43)申请公布日 2021.05.18 (21)申请号 202110144324.2 (22)申请日 2021.02.02 (71)申请人上海图双精密装备有限公司
2023-06-05 约8.59千字 8页立即下载
一种单面自动光刻机的拖轮组件.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213399193 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022424649.X (22)申请日 2020.10.27 (73)专利权人广东莱宝智能装备股份有限公司
2023-03-08 约4.88千字 5页立即下载
一种单面自动光刻机的对位机构.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213399192 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202022424628.8 (22)申请日 2020.10.27 (73)专利权人广东莱宝智能装备股份有限公司
2023-03-09 约5.24千字 6页立即下载
一种光刻机用晶圆寻边机构.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 114566455 B (45)授权公告日 2022.08.23 (21)申请号 202210197125.2 H01L 21/683 (2006.01) (22)申请日 2022.0
2023-05-06 约1.73万字 18页立即下载
一种光刻机及其操作方法.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112987503 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110121266.1 (22)申请日 2019.03.06 (62)分案原申请数据 2019101
2023-06-06 约1.19万字 13页立即下载
一种光刻机的自动对焦的工作装置.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213122598 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202021495629.5 (22)申请日 2020.07.24 (73)专利权人湖南印之明智能制造有限公司
2023-03-02 约8.94千字 11页立即下载
一种晶圆平边寻边装置和光刻机.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213122599 U (45)授权公告日 2021.05.04 (21)申请号 202022036164.3 (22)申请日 2020.09.16 (73)专利权人上海探跃半导体设备有限公司
2023-02-26 约1.08万字 11页立即下载
激光全息直写光刻机安全操作及保养规程.docx PAGE PAGE1 激光全息直写光刻机安全操作及保养规程前言激光全息直写光刻机作为高性能光学设备，具有非常高的科研和生产价值。为确保设备的正常运行和生产效率，必须保证设备的安全性和稳定性。因此，制定科学规范的操作步骤和保养规程不仅能保障人身安全，而且能够延长设备的使用寿命。安全操作规程 1.备件准备操作员在进行设备维护和操作前，必须要准备相应的备件，并遵循合理的备件更换规程。具体备件包括：镜片、滤镜、反光镜、聚焦镜、激光器、电源等等。每种备件都有对应的更换周期或寿命到期时间，如果超过该时间就需要进行及时更换。在更换备件时，必须确认备件的规格型号和质量。 2.设备检查启动设备前，必须
2023-12-26 约1.5千字 4页立即下载
光刻机磁浮工作台超精密平面光栅测量定位技术研究项目分析报告.pptx 光刻机磁浮工作台超精密平面光栅测量定位技术研究项目分析报告2025-01-28 目?录CATALOGUE02磁浮工作台技术原理及特点01项目背景及意义03平面光栅测量定位技术研究04磁浮工作台与平面光栅结合应用05实验研究及数据分析06总结与展望 01 平面光栅测量定位需求为实现超精密定位，平面光栅测量技术成为关键，需深入研究以提升定位精度。半导体产业快速发展随着信息技术的飞速发展，半导体产业已成为支撑现代社会发展的重要基石。光刻机技术瓶颈光刻机是半导体制造中的核心设备，其工作台定位精度直接影响芯片制造质量，传统技术面临挑战。项目背景介绍通过研究超精密平面光栅测量定位技术，可提升光刻机工作台
2025-02-13 约3.51千字 33页立即下载
基于光栅的光刻机光学系统偏振检测技术：原理设计与应用.docx 基于光栅的光刻机光学系统偏振检测技术：原理、设计与应用一、引言 1.1研究背景与意义在当今数字化时代，半导体器件作为现代电子设备的核心组件，广泛应用于计算机、通信、医疗、航空航天等诸多领域，对推动社会发展和科技进步起着举足轻重的作用。而光刻机，作为半导体制造过程中最为关键的设备，承担着将设计好的电路图案精确转移到硅片上的重任，其性能的优劣直接决定了芯片的集成度、性能以及生产效率，进而影响着整个半导体产业的发展走向。随着半导体技术的不断演进，芯片制造工艺正朝着更小的特征尺寸和更高的集成度方向迅猛发展。从早期的微米级工艺，到如今的纳米级甚至更小，芯片上的晶体管数量呈指数级增长。这不仅要求光
2025-03-24 约3.22万字 25页立即下载
一种直写式光刻机的自动压板机构及其控制方法.pdf (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114885511 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210659974.5 (22)申请日 2022.06.13 (71)申请人杭州新诺微电子有限公司地址 31
2023-05-19 约1.19万字 11页立即下载
一种半导体芯片生产用浸没式光刻机.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213409535 U (45)授权公告日 2021.06.11 (21)申请号 202021680071.8 H01L 21/67 (2006.01) (22)申请日 2
2023-03-09 约7.56千字 8页立即下载