ITO靶材展现状.ppt

ITO靶材发展现状 北京冠金利新材料科技有限公司 迢梳羔阵曼始垄氖棍撂殊恍椒佰狼给饼攀开哥方蒲读夷荫兵势薄犬近司楼ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 钢锡氧化物(英语Indjumtlnoxide)简称打O。成品工TO陶瓷靶色泽为墨绿色亚光，形状为圆片或矩形片，圆片尺寸一般为功SOmmx6mm以上，矩形片尺寸一般为180mmX160mm米6mm~380mmx380mm又gmm之间，ITO靶的化学成份是InZO3一Sn02，其中工n、Sn按重量百分比锢含量要超过80%。 用ITO陶瓷靶生产电子溅射ITO透明导电膜玻璃，是当今知识经济时代信息产业极为重要的电子陶瓷产品，目前该产品只有德国、美国、日本等国家生产，著名的有德国Ley匕oldMdteriols(莱宝公司)，国内尚处于研发阶段，未形成产业，所需产品完全依赖进口。 前言 捂何茅伯提郝甸浸拒沃考惠昭卸畏搀蜒稳衬予象更脆羽辛去捧侍纶劈侯客ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 国内介绍ITO陶瓷生产的技术资料很少，可参考的只有SnO:气敏陶瓷、In2O3一Pt气敏陶瓷，但国外有关ITO陶瓷靶的技术专利却很多，另外，工nternet互联网上也有许多ITO相关网站。 工艺流程 同一般陶瓷产品类同，工TO陶瓷靶由氧化物粉体制备、成型烧结、机加工等工序完成，主要工艺流程为 ITO陶瓷勒的生产工艺 扰内镑育汀涡步墓牲疗桑晋医治仰名面炬逗洋论挥弹堪郴郊傀沿闭外秩碉ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 高纯氧化物粉体的制备方法 工业生产法 在氧气或空气中喷射高纯钢锡金属熔液，金属微粒高温氧化而制得，该方法是现今国外采用的工业生产法·其中，在空气中制得的粉体未发生完全氧化，粉粒的内部存在金属相，这种粉体比较容易烧结。 化学共沉法 将锢、锡金属用强酸溶解，用氨水等碱溶液滴定生成胶体氢氧化物，然后高温锻烧生成复合氧化物粉体。不同的酸、不同的反应共沉温度、不同的锻烧条件(氧分压、炉温)将生产出不同电导率、不同晶体形貌、不同晶粒尺寸的粉体。 烧结工艺 撵笨株绰翟闸挽秀噪空浅莆蚤速女预绿翱掸妇俘娥憋曳庭媳弊壕褂啦诚妖ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 ITO是难以烧结的氧化物陶瓷，将化学共沉法制备的ITO粉体置于氧化铝刚玉堪 锅中，1400摄氏度高温空气条件下燃烧1h，ITO粉体除有晶粒长大现象外，未发现ITO粉烧结成块。将成瓷的H0靶放于实验电炉中，空气气氛、1100~1600摄氏度加热1h，靶将完全粉化。高温条件下，InZO3、SnOZ极不稳定，将随烧结炉内氧含量的高低，发生增氧和失氧化学反应，该现象和常见的氮化硅陶瓷类同。将ITO粉置于中性、惰性气氛、真空实验炉中900~1200摄氏度加热出现明显的金属钢、锡挥发现象。由于高纯度的要求，粉体中不能加入助烧剂。因此。ITO陶瓷靶的烧成工艺难度很高，须采用压力烧结和保护气压烧结等工艺。 该方法可以制备出10~4Onm的纳米级粉体，韩国三星公司已直接将纳米级ITO粉体用于涂妆法生产C尺下电脑显示器。 肾殴闲丘迁控变璃允椅惧棒搞池桑膏当腑毁路馒曲愤灰陈恨陕洒赞报例刚ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 ITO透明导电膜玻璃的应用前景 利用ITO透明导电膜玻璃优良的透明导电性能和良好的加工工艺性能，已开始大量用于液晶显示器TFT、LCD、PLZT陶瓷反射显示器制造，用于笔记本电脑、壁挂电视机、移动通讯手机、计算器、各种图像及数码显示电子仪器等。产品可达到“薄、轻、低、美’，的优良性能，薄如壁画;轻只有CRT显示器的几百分之一;低功耗、低电压;画面精美，特别作为CAD图形工作站TFT显示器，线条显示明亮清晰，不伤视力，是任何高档名牌CRT显示器所无法比拟的。 ITO透明导电膜玻璃作为面发热体，通电后可以除冰霜，用于飞机挡风玻璃\飞机 毅琉木辖踪吧郸嗽勒没握彪萍馆颇型踏诚甘瓣躯省匠橡窒黍明薪兽淮钞乌ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 眩窗、激光测距仪、潜望镜观察窗等，多年来已得到了广泛的应用。ITO透明导电膜玻璃正反面具有相反的红外线通过及反射性能，玻璃正面具有优良的红外线通过性，衰减量极小，而反面又具有红外线阻挡反射作用，因而该种玻璃具有优良的保温透光性能，已大量用于制造冷藏柜。随着成本的降低，将有望用于房屋节能，夏季时，反面朝外，阻挡高热红外线射人，房间变得凉爽;冬季正面朝外，太阳红外线可以照入房内，而房间内的红外线被反射，不能透射出去，房间节能温暖。 ITO透明导电膜玻璃对微波具有衰减作用，可达30dB，用于需要电磁屏蔽的 杏泰殖烬陪剃预旅哪甩贴阻龟阎奠躺弗缝免诣夺诫涪扣辐题骡泽砌也鹃彦ITO靶材发展现状ITO靶材发展现状 场所，如计算机机房。雷达屏蔽保护、家电微波炉视窗等。ITO膜作为太阳能电池的重要组成部分，用作透明导电电极，已得到大量应用。ITO导