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薄膜材料技术与物理1.pdf

发布:2015-08-15约1.58万字共4页下载文档
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1.1 真空的基本概念 1.1.1 真空的定义 第一章 真空技术 压力低于一个大气压的任何气态空间 气体处于平衡时,气体状态方程 P = nkT 3 -23 许多薄膜技术是在真空下实现的, P:压强(Pa),n:气体分子密度(个/m ),k:玻尔兹曼常数(1.38×10 J/K) 3 V:体积(m ),m:气体质量(kg),M:分子量(kg/mol) 23 R:气体普适常数,T:绝对温度(K),R=N ·k,N :阿佛伽德罗常数(6.023×10 /mol) “真空”是许多薄膜制备的必要条件,因 A A 3 (个/m) 19 3 此,掌握一定的真空知识是必需的。
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