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层状PVDF基复合薄膜的三维结构设计及电磁屏蔽性能研究
一、引言
随着现代电子设备的普及和高速发展，电磁干扰（EMI）问题日益严重，对人类生活和工作产生了极大的影响。电磁屏蔽材料作为解决这一问题的有效手段，其研究与应用显得尤为重要。聚偏二氟乙烯（PVDF）基复合薄膜因其优异的物理和化学性能，在电磁屏蔽领域得到了广泛关注。本文针对层状PVDF基复合薄膜进行三维结构设计，并对其电磁屏蔽性能进行深入研究。
二、层状PVDF基复合薄膜的三维结构设计
2.1材料选择
本研究选用PVDF作为基体材料，通过添加导电填料和增强材料，提高薄膜的导电性和机械强度。导电填料如碳纳米管、金属粉末等，可提高薄膜的导电
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