发光材料、喷墨打印薄膜光学器件的方法及其应用.pdf

《《薄膜光学1》》.ppt 薄膜光学高劲松 * * 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所薄膜光学薄膜光学参考书光学薄膜技术，H.A.麦克劳德著，周九林、尹树百译，国防工业出版社1974 应用光学薄膜，唐晋发、郑权著，上海科学技术出版社，1984 玻璃镀膜， H.K.普尔克尔著，仲永安等译，科学出版社，1988 光学薄膜原理，林永昌、卢维强著，国防工业出版社1990 薄膜科学与技术手册，田民波、刘德令，机械工业出版社，1991 OPTICAL THIN FILMS USER HANDBOOK, JAMES D.RANCOUNT 薄膜光学——基础理论你所知

2015-10-11 约4.33千字 35页立即下载

《《薄膜光学2》》.ppt * * 薄膜光学——基础理论 薄膜光学的基础理论电磁场的基本性质光学薄膜系统特性计算对称膜系等效折射率分析方法介绍麦克劳德的导纳轨迹图解技术薄膜光学——基础理论光学薄膜基础理论几个条件：工作波段：光学薄膜厚度于考虑的波长在一个数量级薄膜的面积与波长相比可认为无限大薄膜材料各向均匀、同性薄膜材料为非铁磁性材料光穿过膜层而非沿着膜层在膜层内传播薄膜光学——基础理论电磁波谱电磁波谱光是电磁波薄膜光学——基础理论薄膜的干涉两束光产生干涉的条件：频率相同振动方向一致位相相同或位相差恒定薄膜的双光束干涉薄

2016-09-11 约1.56千字 39页立即下载

薄膜光学技术-3-1.ppt 第三章薄膜制造技术薄膜的制备方法湿法制备薄膜工艺简单，制造成本低，但膜层厚度不能精确控制，膜层强度差，较难获得多层膜，有污染。干法制备薄膜需要使用真空镀膜机，制造成本高，但膜层厚度可以精确控制，膜层强度好，无污染，已广泛采用。 PVD技术 1. 热蒸发技术 2. 溅射技术 3. 离子镀技术 4. 离子辅助镀技术 3.1 真空及真空镀膜机 “真空”是干法镀膜的基础，是光学镀膜机的基础。本节将解答下列问题： PVD为什么要在真空中进行？真空用哪些参数计量？ PVD

2017-05-25 约6.53千字 51页立即下载

薄膜光学技术-4-1.ppt 第四章光学薄膜制造工艺 4.1 光学薄膜器件的质量要求薄膜器件光学性能光学常数(n, k, d) 折射率产生偏差的原因聚集密度微观组织物理结构(晶体结构) 膜层化学成分薄膜器件机械性能硬度牢固度—（附着力）薄膜器件环境稳定性盐水盐雾、高湿高温、高低温、水浴、酸碱腐蚀膜层填充密度对膜层质量的影响 4.2 影响膜层质量的工艺要素 PVD基本工艺过程: 工艺参数对薄膜性能的影响 4.2.1 影响膜层质量的工艺要素及作用机理综合分析结果 PVD工艺因素对膜层性能的影响，主要集中在三类工艺因素对膜层四种性能的作用上：显然，成膜原子

2019-03-05 约6.63千字 45页立即下载

ZnO薄膜光学器件结构设计.docx PAGE8 绪论 1.1引言材料科学的目的是开发和设计新的材料，这些材料在工业中起到很大的作用，因此根据不同应用场景对合成的材料进行优化是非常有必要的。其中，半导体氧化锌由于其许多有价值的性能而引起了人们的广泛关注，Zn0熔点为1975°C，密度是5.606g/cm3，是一种重要的二元II-VI化合物REF_Re\w\h错误!未找到引用源。REF_Re\w\h错误!未找到引用源。。通常情况下，ZnO以白色粉末的形式存在，不溶于水，是一种无毒、无臭、无味的氧化物。由于化学计量点缺陷空位，氧化锌的电学性质仍然是n型半导体。由于Zn

2024-11-24 约6.16千字 9页立即下载

一种具有薄膜光学窗片的电化学谱学原位池及其应用.pdf (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112834583 A (43)申请公布日 2021.05.25 (21)申请号 202110012549.2 (22)申请日 2021.01.06 (71)申请人厦门大学地址 36

2023-06-06 约9.04千字 9页立即下载

喷墨打印法制备红色有机发光器件的研究的中期报告.docx 喷墨打印法制备红色有机发光器件的研究的中期报告该研究是针对利用喷墨打印技术制备红色有机发光器件的方法和工艺进行的实验研究。本中期报告主要介绍了研究的进展情况和实验结果。具体包括以下内容： 1. 研究背景和意义有机发光器件的制备一直是研究热点之一，因为它具有色彩鲜艳、亮度高、易制备等优点。目前，大部分有机发光器件是利用真空蒸镀技术制备的，但这种方法不仅成本高，而且制备过程需要多次真空蒸镀，工艺复杂，限制了其在大规模生产中的应用。相比之下，喷墨打印技术简便快捷，成本低，且可实现大面积均一覆盖，具有广泛的应用前景。 2. 实验设计和方法实验中采用喷墨打印技术在ITO玻璃基板上制备有机发光器件，

2023-10-16 约小于1千字 2页立即下载

Mn-Co-Ni-O系薄膜光学性质及多元器件研究的开题报告.docx Mn-Co-Ni-O系薄膜光学性质及多元器件研究的开题报告这是一份关于Mn-Co-Ni-O系薄膜光学性质及多元器件研究的开题报告。一、研究背景近年来，随着信息技术的不断发展，人们对于高性能电子器件的需求不断增加。而多元化的器件具有更广泛的应用场景和更高的性能要求，因此对其研究成为了研究热点之一。在这个背景下，Mn-Co-Ni-O系薄膜作为一种多元材料显示出了很好的应用潜力。该材料既有优异的电学性能，又具备良好的磁学性能，这使得其可以在磁电耦合、磁阻效应、透明导电膜以及智能传感等领域中有广泛的应用。因此，研究Mn-Co-Ni-O系薄膜的光学性质及相关多元器件具有重要意义。二、研究内容

2024-04-05 约1.29千字 3页立即下载

多层薄膜光学性能提升方案.docx 多层薄膜光学性能提升方案多层薄膜光学性能提升方案一、多层薄膜光学性能概述多层薄膜作为一种重要的光学材料，在光学领域有着广泛的应用，如光学涂层、光学滤光片等。其光学性能的优劣直接决定了相关光学器件的性能和应用效果。多层薄膜的光学性能主要包括反射率、透射率、折射率等方面。 1.1反射率反射率是指入射光在薄膜表面被反射的光量与入射光总量的比值。对于一些需要高反射效果的应用场景，如反射镜等，高反射率的多层薄膜是关键。而对一些需要减少反射以提高透光性的应用，如光学镜头等，低反射率的薄膜则更为重要。影响反射率的因素有很多，包括薄膜的材料、厚度、层数以及入射光的波长等。例如，采用高折射率材料与低折射

2025-01-22 约4.69千字 11页立即下载

《《长春光机所-薄膜光学课件2》》.ppt * * 薄膜光学——基础理论 薄膜光学的基础理论电磁场的基本性质光学薄膜系统特性计算对称膜系等效折射率分析方法介绍麦克劳德的导纳轨迹图解技术薄膜光学——基础理论光学薄膜基础理论几个条件：工作波段：光学薄膜厚度于考虑的波长在一个数量级薄膜的面积与波长相比可认为无限大薄膜材料各向均匀、同性薄膜材料为非铁磁性材料光穿过膜层而非沿着膜层在膜层内传播薄膜光学——基础理论电磁波谱电磁波谱光是电磁波薄膜光学——基础理论薄膜的干涉两束光产生干涉的条件：频率相同振动方向一致位相相同或位相差恒定薄膜的双光束干涉薄

2015-10-13 约字 36页立即下载

《《长春光机所-薄膜光学课件4》》.ppt * * 薄膜光学——基础理论中国科学院长春光学精密机械与物理研究所复习：对于多层膜薄膜光学——基础理论中国科学院长春光学精密机械与物理研究所反射率透射率吸收率反射相移薄膜光学——基础理论中国科学院长春光学精密机械与物理研究所膜系的透射定理膜系的透射定理: 薄膜的透射率与光线的入射方向无关，所以不可能用薄膜的办法制作单向透光的元件，而反射率、吸收率可是不同的。薄膜光学——基础理论中国科学院长春光学精密机械与物理研究所本此课的主要内容光学薄膜在倾斜入射时的表现考虑到基片背面反射时的情况对称膜系的等效折射率矢

2016-09-10 约字 41页立即下载

3.3薄膜光学参数测试解析.ppt Schl. of Optoelectronic Inform. “光电探测与传感集成技术”教育部国防重点实验室 State Key Lab. of ETFID “电子薄膜与集成器件”国家重点实验室. Schl. of Optoelectronic Inform. “光电探测与传感集成技术”教育部国防重点实验室 State K

2016-11-01 约1.3万字 46页立即下载

《薄膜光学干涉现象》课件.ppt 薄膜光学干涉现象本课件将深入探讨薄膜光学干涉现象，从基本概念到实际应用，带您全面了解这一重要的光学领域。我们将从薄膜的定义和分类入手，回顾光的干涉原理，详细讲解等厚干涉、等倾干涉等现象，并介绍薄膜在光学仪器、显示技术、光伏技术以及生物医学等领域的广泛应用。目录1薄膜基础什么是薄膜？薄膜的分类2干涉原理光的干涉原理回顾，干涉的条件，相干光，光程差，干涉条纹的形状3薄膜干涉薄膜干涉的定义，薄膜干涉的条件，光的反射与折射，相位变化，光程差计算，等厚干涉，等倾干涉4实验与应用牛顿环实验，劈尖干涉，多层膜干涉，增透膜，反射膜，干涉滤光片，制备方法，厚度测量，应力，稳定性，光学常数测量，应用领域，案例分

2025-03-23 约8.1千字 60页立即下载

TiO薄膜光学性质的研究.doc ------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— TiO2薄膜光学性质的研究第24卷第7期2005年7月　大　学　物　理　COLLEGE　PHYSICSVol.24No.7July.2005 李　丹1,何愿华2,柳清菊2 (11广西师范大学物理与信息工程学院,广西桂林　541004;21云南大学材料科学与工程系,云南昆明　650091) 　

2018-05-30 约8.19千字 18页立即下载

氧分压对TiO2薄膜光学性能的影响.pdf 西安工业大学学报Ｖｏ１．２８Ｎｏ．６２００８年１２月ＪｏｕｒｎａｌｏｆＸｉ’ａｎＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｃａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙＤｅｃ．２００８文章编号：１６７３—９９６５（２００８）０６—５１ｌ一０５氧分压对ＴｉＯ２薄膜光学性能的影响朱昌，刘佳，ＤｍｉｔｒｉｙＡ．Ｇｏｌｓｏｖ。，ＳｅｒｇｅｙＭ．Ｚａｖａｔｓｋｉｙ（１．西安１二业大学光电丁程学院，西安７１００３２；２．白俄罗斯国立无线电信息大学薄膜实验室，明斯克２２００１３）摘要：为得到光学性能良好、稳定的Ｔｉ（）。薄膜，采用离子柬溅射的方法，改变氧分压，在ｋ９玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的ＴｉＯ。薄膜．采用椭圆偏振光谱仪

2024-08-02 约1.49万字 5页立即下载