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镀金手指讲义.doc

发布:2017-04-19约2.16千字共3页下载文档
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镀金手指(G/F)内部培训讲义 制作目的 金手指设计的目的在于藉由连接器的插接作为板对外连络的出口,之所以选择金是因为它的优越的导电度,抗氧化及耐磨性,由于金成本极高故只应用于金手指、局部镀或化学金,如bonding pad等。 G/F流程 包蓝胶→辘胶→上板→酸洗(或微蚀)→水洗→磨刷→水洗→DI水洗→镀镍→水洗→DI水冼→镀金→回收→出板→撕胶→洗板。 镀G/F工艺 包胶:贴住G/F外部分防镀。 酸洗(或微蚀):清洁铜面,去氧化皮。 磨刷:使用飞翼磨辘磨去铜面上氧化皮及S/M、C/M残膜,提供镀镍时一个清洁 铜面。飞翼磨辘的材质硬度和压力的选择对磨刷效果起着决定性影响,硬度、 压力过大,会导致G/F Short和磨痕印,过小会磨不干净;过软的磨辘做尖角 G/F会产生磨辘丝。 镀镍:作用是作为金层和铜层之间的屏障,防止铜迁移,为降低镀层内应力,现都采 用镍含量高而镀层内应力极低的氨基磺酸镍。 镍缸药水成分及作用 a.主盐:氨基磺酸镍Ni(NH2SO3)2,提供电镀Ni2+,镍含量高,电流效率高, 沉积速率快,内应力低,光亮度高;镍含量低,分散能力和覆盖能力好。 b.阳极活化剂:氯化镍,能降低阳极电位,去极化作用显著,加快阳极溶解,防止 阳极钝化。 c.PH缓冲剂:硼酸,稳定溶液PH值,防止因PH值高而产生氢氧化物沉淀及降低 析氢进而提高电流效率。 d.添加剂:①光泽剂:mp-200(SE),有细化晶粒,镀层整平进而获得光亮镀层之功效。 ②润湿剂:NAW-4降低表面张力,降低镀层内应力,防止针孔产生。 反应机理: a.阴极反应:Ni2e+2e→Ni (主反应→电镀镍) 7H++2e→H2↑ (副反应) b.阳极反应:Ni-2e→Ni2+ (主反应→阳极溶解)    4OH--4E→2H2O+O2↑ (副反应) 镀金: 本厂目前采用的是一柠檬系列酸性镀金,采用不溶性阳极,金盐以溶液形式定时补充。镀金的电镀效率很低,全新镀液约30-40%,且因逐渐老化及污染而降低到15%左右,故镀金溶液的搅拌和循环是非常重要的。 金缸药水成分及作用: a.主盐:氰化金钾K[Au(CN)2]为白色结晶体,用热水溶解补入金缸; b.络合剂:氰化钾和柠檬酸盐,可提高阳极极化作用,细化晶粒; c.导???盐:7000导电盐,可提高溶液电导率,改善镀液分散能力。 d.添加剂:7000补充剂:光亮、整平、细化镀层,降低内应力。 7000F补充剂:提供镀液Fe组分,改善镀层结构,提高镀层硬度。 反应机理: 阴极反应:[ Au(CN)2]- +e→Au+2CN- (主反应→电镀金)    2H++2e→H2↑ (副反应)  阳极反应:40H--4e→2H2O+O2 ↑ (不溶液阳极) 金回收:可降低电镀成本。 电镀设备: 0-4m/min任意可调水平电镀线,要求运行平稳、不翻板、掉板、撞缸。 可稳压或稳流控制的金镍缸火牛,要求能保持稳定,上下跳动小。 金、镍缸加热过滤系统良好,各缸连接部分挡水效果良好,不漏水和DRAGOUT少。 常见问题及改善措施: 常见问题可能原因解决措施G/F针孔基铜针孔 湿润剂或光亮剂不足 药水浓度失调 温度太低 电流(电压)过高 搅拌或循环不足 有机杂质太多 铁铜等杂质太多改善镀铜及镀G/F前处理 根据Hull Cell Test调整 分析调整 升温至50-60℃ 适当降低电流(电压) 适当增强搅拌或加大循环量 碳芯过滤或做碳处理 低电流拖缸或做碳处理G/Fshort磨板不良 前工序short降低磨辘压力,加大水洗,换用较软磨辘。 检板修理;找出原因并在相应工序改善G/F粗糙电流(电压)太大 前工序铜面粗糙适当降低电流(电压) 检板修理;找出原因并改善G/F金面氧化PH值偏太大 回收金水太脏 金缸太脏 水洗不及时或未烘干调整PH值 换回收金水 检查更换金缸过滤芯(网)过滤 及时洗板和烘干甩金、甩镍磨板不良 水洗不净 镍面钝化 电镀过程中电流停断 有杂物残留在G/F上适当加大磨板压力 更换或加大水洗 镀金前开活化缸 检修设备和线路 检板修理或适当加大磨板压力渗金蚀板不净 磨板压力过大 无引线加厚金电流过大检板修理;改善蚀板效果 适当降低磨板压力 打小电流和行速金色不良光剂不足 金含量太低 有机污染 金缸中镍铜含量过高据Hull Cell Test调整 分析补加 加强过滤,镍缸可作碳处理 更新烧板镍含量太低 光剂不足 电流密度过大 温度低 PH值太高分析
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