人工裁剪制备石墨纳米结构.pdf

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 )’ T #%%) T @2F .)’ ， ， ， X2 .T B7;=70Q7: #%%) （ ） !%%%3$#T%U #%%)U )’ %T U ’#)!3%) D?VD ,*WBO?D BOXO?D #%%) ?5/ . ,I4 . B2J . !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 人工裁剪制备石墨纳米结构 !） !） !） !） !） !） !） 刘首鹏 周 锋 金爱子 杨海方 马拥军 李 辉 顾长志 ） ） ） ） ） ! # # $ $ 吕 力 姜 博 郑泉水 王 胜 彭练矛 !）（中国科学院物理研究所，北京 !%%%% ） # ）（清华大学力学工程系，北京 !%%%’ ） $ ）（北京大学电子学系，北京 !%%(!） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） #%%) ’ !$ #%%) ) 采用不同的方法裁剪高定向热解石墨（ ），制备纳米尺寸的石墨条 首先，发现用聚焦离子束（镓离子）刻蚀 *+,- . 高定向热解石墨，可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条，另外，用电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺，可以得 到最小尺寸为 的纳米石墨图型（ ，纳米尺寸的多层石墨结构）采用了三种不同的方案 )% /0 /1/2345678 9:1;5=7 ;1==7:/ . 制备反应等离子刻蚀过程中需要的掩膜，分别是 ,?@A 生长的B5+ 掩膜，磁控溅射的方法生长的B5+ 掩膜和 # # ,CCD 光刻胶掩膜，并将三种方案的刻蚀结果做了对比. 关键词：高定向热解石墨，聚焦离子束刻蚀，电子束曝光，反应离子刻蚀 ： ， ， !## E!’E (#% !#% 蚀（ ）的方法成功制备得到了微米尺度的石墨图 , ［，］ 引 言 型# E 但未能将尺寸进一步缩小 本文分别采用 !K . N