合肥鑫晟触摸屏生产线项目公示简本-合肥新站高新技术产业开发区.DOC

合肥鑫晟光电科技有限公司 触摸屏生产线项目环境影响报告书 （简本） 目 录 建设项目情况简述； 项目所在地的环境质量现状 建设项目对环境可能造成影响的概述； 预防或者减轻不良环境影响的对策和措施的要点； 环境影响报告书提出的环境影响评价结论的要点； 一、建设项目情况简述 合肥鑫晟光电科技有限公司拟在合肥新站综合开发试验区站北新区平板显示基地内（合肥鑫晟光电科技有限公司厂址内）建设触摸屏生产线项目，项目总投资50亿元人民币，项目建设生产及辅助生产设施、动力设施、环保设施、安全设施、消防设施、办公设施等及其相应的建构筑物，部分依托公司已建设施。项目建成后从事触摸屏的生产。项目产品方案及规模见表1。 表1 产品方案及规模 工程名称 产品名称及规格 生产能力 1 Sensor工程 玻璃（规格1500×1850mm） 72万片/年 2 贴合工程 Touch Sensor 6302.4万块/年 注：贴合工程产能以代表贴合产品折算 该项目在合肥新站综合开发试验区站北新区平板显示基地内建设，符合国家当前产业政策和园区的产业发展规划。 二、项目所在地的环境质量现状 1、大气环境质量现状 监测期间，项目所在区域环境空气中PM10、SO2、NO2、氟化物能满足GB3095-1996《环境空气质量标准》中二级标准要求；非甲烷总烃满足以色列标准；氨气满足TJ36-79《工业企业设计卫生标准》居住区大气中有害物质的最高容许浓度标准，表明项目所在地环境空气质量良好。 2、地表水环境质量现状 监测期间，二十埠河水质达不到《地表水环境质量标准》（GB3838-2002）中V类水体功能要求，主要超标污染物是NH3-N和TP，最大超标倍数分别为2.92倍和1.013倍；南淝河水质达不到《地表水环境质量标准》（GB3838-2002）中V类水体功能要求，主要超标污染物是COD、NH3-N和TP，最大超标倍数分别为0.308倍、0.71倍和0.505倍。 3、声环境质量现状 监测期间各监测点昼间、夜间噪声均能达到《声环境质量标准》（GB 3096-2008）中3类标准的要求，区域声学环境质量良好。 4、地下水环境质量现状 监测期间，本项目所在区域地下水监测断面所监测的因子中各监测指标Si值均小于1，均能达到《地下水环境质量标准》（GB/T14848-1993）III类水域标准的要求，表明区域地下水水质良好。 5、土壤环境质量现状 监测期间，各监测指标均满足《土壤环境质量标准》(GB15618-1995 )二级标准，表明区域内的土壤环境质量良好。 三、建设项目对环境可能造成的影响概述 项目在生产过程中，产生的污染物主要有：生产废水（工艺酸碱废水、有机废水、含磷废水、工艺含氟废水、一般清洗废水、、冷却塔排水等）、生活污水；生产废气（一般性废气（废热）、酸碱废气、有机废气）、设备噪声以及固体废物等。 1．废水 排放总量4336m3/d，包括生产废水和生活污水，生产废水和生活污水分别处理后排放。 本项目生产废水主要包括工艺酸碱废水、有机废水、含磷废水、工艺含氟废水、一般清洗废水、、冷却塔排水等，废水排放量4016 m3/d。 1）有机废水：废水排放量1200 m3/d，排放方式为连续排放。主要来源如下：1）掩模光刻、光刻胶剥离：主要来自光刻和光刻胶剥离工序后的前段清洗工序。2）BM和OC光刻胶返修：来源于BM和OC光刻胶返修的清洗工序。3）网版清洗：主要来自丝网印刷机网版清洗后用纯水进行冲洗。主要污染物控制指标为pH、COD、BOD5、NH3-N、SS等。有机废水依托现有工程设置的有机废水处理系统处理后排入最终中和处理系统。 2）工艺酸碱废水：废水排放量600 m3/d，排放方式为连续排放。主要来自玻璃基板的初次清洗水、光刻工序的显影废水、显影后前段清洗废水以及ITO刻蚀和metal刻蚀后前段清洗废水等，主要污染物为四甲基氢氧化铵（TMAH）等含NH3类有机物、KOH等，收集后依托现有工程设置的酸碱中和处理系统处理后，进入最终中和废水处理系统处理。 3）含磷废水：废水排放量500m3/d，主要为metal湿法刻蚀工序的使用Al刻蚀液刻蚀后的前段清洗废水，主要污染物为磷酸、硝酸和乙酸等。依托现有工程设置的含磷废水处理系统进行处理后排入有机废水处理系统。 4）清洗水回收系统排水： 回收的清洗废水来源于：玻璃基板初次清洗的后段清洗废水；光刻、显影、湿法刻蚀、剥离的后段清洗水；光刻胶剥离后清洗工序的后段清洗水；Logo和IR印刷前清洗水；CNC加工及清洗工序的清洗水；HF二次强化后清洗工序的清洗水。废水回收量2700m3/d，回收系统排水量99m3/d。回收系统排水中的主要污染物有：pH、COD、SS等，拟汇入最终中和处理系统处理后排放。 5）